英特爾不再注重新一代晶片的性能提升?
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你還在熱情關注 PC 領域嗎?如果是,你希望下一代 PC 處理器提供什麼樣的性能或能效?說實話,對於那些還在關電腦領域的愛好者,在更強的性能、更低的功耗或更長的使用續航時間這些話題之間,常常進行各種有趣的討論乃至爭論,而且從最初英特爾與 AMD 那個相互競爭的年代就已經開始了。
今天,AMD 顯然已經不再節奏上了,所以愛好者討論最多的是英特爾處理器的發展,並認為代表了未來桌面 PC 晶片的風向標。
不過,沒有外部競爭的壓力,英特爾似乎很難逼自己更快的進步,最明顯的標誌就在於,其 14 納米的晶片竟然打破了的「嘀嗒」定律延續三年時間都在吃老本。
那麼,被寄予厚望的英特爾 10 納米和 7 納米晶片呢?
上周三在紐約召開的一次戰略決策會議上,英特爾執行長布萊恩·科茲安尼克( Brian Krzanich)表示,英特爾希望即將發布基於 10 納米和 7 納米工藝製程的每一代晶片能夠提供穩定 10% 到 20% 的性能提升。
對此很多 PC 愛好者表示失望,因為在他們看來這些數字應該是遞增的,要不然 AMD 即將發布的 Zen 新一代處理器架構怎麼會如此備受矚目呢?幾天前在 Computex 2016 上 AMD 再一次確認,ZEN 架構在性能方面帶來了巨大的改進,相對於「推土機」架構每時鐘指令集執行率上漲幅達到了 40% 以上。
當時 AMD 首席技術官馬克·佩珀馬斯特(Mark Papermaster)表示,ZEN 是歷史上從未有過的一次性能大提升。
而 AMD 的執行長蘇大媽 Lisa Su 也接過此話表示,ZEN 處理器架構的最大亮點就是「高性能」。
新方向:削減成本 注重能效?
如今的英特爾,似乎與 AMD 有著不同的目標,不僅更加專注於筆記本電腦的使用續航時間,而且還希望 PC 能夠以更實惠的價格得到更高的性能。
簡單的說,英特爾的當務之急就是努力讓晶片變得更小,同時大幅降低功耗和製造成本。
紐約會議上,布萊恩·科茲安尼克說:「對我來說,我帶來的英特爾追求每電晶體的成本和每瓦能夠提供的性能,這才是真正的方向,我相信並會繼續這麼做。
」
很顯然,英特爾正在尋求通過不同的方向來領先對手的手段,不過這的確有助於實現製造成本與沒瓦性能之間的平衡,至少布萊恩·科茲安尼認為這些變化可以讓英特爾持續在晶片製造優勢上領先對手。
英特爾長期以來自己製造生產晶片,而 AMD 則有所不同,目前由合作的晶片製造商 Globalfoundries 改工生產,部分還交給英特爾的其他競爭對手,包括三星和台積電。
「如果你對其他競爭對手有所了解,也知道他們說 10 納米對性能改進的餘地很小,他們會選擇在 7 納米全力改進性能。
而我們的計劃是在這些工藝節點上,每一代都能有 10% 至 20% 較為一致的性能改進。
」科茲安尼說。
40 年來以來,英特爾一直遵循摩爾定律作為電晶體發展的指導,將其作為技術創新的核心思想。
按照摩爾定律,集成電量上的電晶體數量每隔兩年翻一倍,並且成本更低。
不過,現在來看越來越難維持,該戰略出現了停擺,反而更多地設計晶片製造的經濟型,希望從中融入更多高級的 PC 技術,同時確保成本更加低廉。
準確的說,英特爾似乎已經開始考慮三年推進一次工藝製程的新策略了,而不再是兩年一更。
但需要注意一個事實,工藝進步到 10nm 之後越接近矽基半導體的物理極限,製造難度更大,成本和風險也更高,英特爾現在考慮以數十億美元投資到新工廠上,所以花更多時間也在情理之中。
當然了,英特爾已經確認第一款 10 納米代號為 Cannonlake 的晶片,肯定會在 2017 年下半年發布。
工藝製程不重要了?
Tirias Research 首席分析師吉姆·麥格雷戈(Jim McGregor),對英特爾大佬在晶片性能改進上持有不同的意見。
他表示,英特爾所說的「競爭對手工藝進步性能改進也不會很大」論沒錯,但是隨著工藝製程的成熟性能同樣得到明顯提升,只有以先進的工藝支持為基礎才有可能刺激性能的增長。
若以事實證明,直接拿英特爾就能做例子。
最初英特爾剛剛踏入 14 納米的工藝,性能上其實仍與 22 納米差不多,但是隨著工藝的成熟,如今 14 納米晶片的性能得到了更高的提升。
所以關於工藝製程的發展,英特爾的競爭對手都在奮力超車,不出意外的話三星有可能是第一家可投產 10 納米的製造商,不過台積電錶示,今年年底 10 納米晶片就可以量產。
但是,晶片工藝製程的每一次提升,性能就一定會穩定循環增長? 誰也說不定,有可能這一次 ZEN 架構 40% 的提升之後就無法做到了呢?畢竟這一次 AMD 的 ZEN 架構不只是升級 14 納米新工藝那麼簡單,還伴隨著複雜 3D 電晶體結構的改進,這些都是此前長期 AMD 沒有從根本上改進的重點工程。
另外,為了在 7 納米工藝結點上取得性能優勢,現在大多數晶片廠商都在押注更先進的製造技術,比如名為 EUV(極紫外光刻)的新技術,該技術有助於消除晶片製造過程的複雜問題,製造出的晶片更為精細。
英特爾之所以時候 7 納米是一個重要的升級,說明該工藝製程目前還是各大製造商的一大挑戰。
在晶片工藝製程方面,英特爾曾多年領先,讓人難以忘懷的一次又一次重大突破實在太多,比如 2007 年的採用 high-k 材料製作電晶體閘極電介質,這是自 1960 年代以來電晶體技術的最大變革,號稱可確保摩爾定律再延續 10 年,還有 2011 年 3D 電晶體讓英特爾輝煌的走進 22 納米時代。
總之,英特爾肯定還在關注整個半導體行業的發展,相信英特爾有自己的技術以確保再一次在工藝製程上領先。
布萊恩·科茲安尼在上周的會議上也提到,「至少在未來兩個工藝節點上,我們知道如何保持領先地位」。
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