三星宣布7nm LPP晶片量產:面積降40%,功耗降50%,性能提高20%
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本文來自公眾號「量子位」(ID:QbitAI),編譯整理:安妮。
三星7nm晶片事業又有新進展。
在近日Samsung Tech Day大會上,三星宣布,已經基於EUV(極紫外光)光刻技術,開始量產7nm LPP(Low-Power-Plus)工藝晶片。
三星表示,和10nm LPE工藝晶片相比,7nm LPP工藝晶片功耗降低50%(在相同頻率和複雜度下),性能提升20%(在相同功率和複雜度下),面積減少40%(在相同複雜度下)。
各工藝製程晶片PPA(性能、功耗、面積)對比
相比於傳統氟化氬(ArF)浸沒技術,EUV技術採用13.5nm波長的光代替193nm波長光曝光矽晶片,省掉了多圖案掩模組的費用。
三星官網數據顯示,與非EUV工藝相比,7nm LPP將掩模總量減少了20%,縮短了生產周期。
是晶片設計廠商也是晶圓代工廠的三星,這次將在韓國華城的Fab S3廠EUV生產線製造,預計大規模投產時間還得等到明年秋天。
△三星華城S3廠EUV生產線
雖然三星沒有透露首先採用7nm LPP工藝晶片的客戶是誰,但暗示了這些晶片會最先流向移動端和HPC應用。
按照以往的慣例,三星倒是傾向首先自產自銷,這次可能還是三星半導體部門最先採用,並用到2019年三星高端手機中。
對了,高通也將三星7nm LPP工藝應用到驍龍5G SoC中。
7nm LPP宣布量產後三星怎麼走?此前三星公布的技術路線圖顯示,之後將重點關注6nm、5nm工藝製程,預計2020年推出4nm GAA(全柵電晶體)工藝晶片。
三星技術路線演進圖/圖片來自Aurus
目前,全球能代工7nm晶片的只有三星和台積電兩家了。
今年8月,全球第二大晶圓代工廠Globalfoundries宣布退出研發7nm以下工藝,英特爾目前還專注於10nm製程晶片的研發。
此前,華為的7nm晶片麒麟980、蘋果的7nm A12處理器已被台積電搶占代工先機,爆料人Roland Quandt在推特透露高通驍龍855也將由台積電代工。
看來,目前還是台積電先行了一步。
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