台積電史上最高資本支出，ASML成最大贏家

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台積電在10月17日召開的第3季法說會上，宣布上調資本支出40億元，由原先的100億~110億美元，大幅上調至140~150億美元，創下台積電單年資本支出的新高紀錄。

而早在10月7日，台積電搶在法說會前所發布的1則新聞稿，已悄悄凸顯出當前半導體大廠EUV（極紫外光刻）軍備競賽的熱度。

新聞稿中宣布，導入EUV微影技術的7納米強效版（N7+）製程，已於第2季開始量產。

台積電宣稱，7納米製程量產已超過1年的情況下，N7+良率與7納米已相當接近。

台積電此舉被外界解讀為，是要向搶先量產EUV但良率似乎不如預期的三星「示威」。

在法說會上宣布新增的40億美元資本支出，就包含採購多台單價逾1億美元的EUV微影設備。

台積電企業訊息處資深處長孫又文向《財訊》證實，「除了7納米之外，所有先進節點如6納米、5納米等，都將採用EUV作為製程的一部分。

但浸潤式微影仍然是未來所有先進位程節點的重要工具。

」儘管台積電在7納米以下的更先進納米製程中，EUV與浸潤式微影技術將並重，但未來勢必對於EUV機台採購需求看漲。

波長新里程突破摩爾定律

巧合的是，就在10月15日，全球半導體光刻設備龍頭ASML（ASML）在法說會前一天，其於歐洲與美國那斯達克（NASDAQ）掛牌的股票，股價分別以243.2歐元與267.54美元，雙雙創下歷史新高紀錄，今年以來的漲幅也分別高達逾76%和71%。

為何這個來自荷蘭費爾德霍芬市的半導體設備大廠股價會漲翻天？答案就是：由ASML獨家提供的EUV微影技術，這正是台積電為持續維持技術領先，大力加碼投資的新設備。

過去20年，全球半導體廠商都仰賴當時最先進的浸潤式微影機台，採用193納米波長的光刻出電路圖案；然而，隨著晶片微縮愈來愈精細，浸潤式微影技術已無法應付，導致摩爾定律恐難以再延續。

因此台積電、英特爾、三星等半導體大廠都引頸期盼著，ASML展開研發的波長僅有13.5納米的EUV微影機台，可以突破浸潤式微影機台在半導體製程的技術瓶頸。

然而，EUV微影機台的研發難度更高，研發費用也持續墊高，讓ASML愈來愈吃不消，原本應該在2005年就該量產，進度卻一再延宕。

為加快EUV研發進度，2012年，英特爾、台積電、三星展開一項創舉—向他們的設備供應商ASML投入了大量資金。

當時，3大巨頭總共投資高達38.5億歐元，取得約23%股份，其中英特爾擁有15%、三星取得3%、台積電則有約5%的股份。

英特爾還額外投資ASML的研發計劃33億美元；三星也為研發計畫挹注2.76億歐元。

經過漫長研發，如今ASML是全球唯一可量產EUV微影設備的大廠，無論三星、台積電、英特爾、中芯國際等半導體大廠，全都要靠ASML生產的EUV微影設備，才能在先進納米製程中導入EUV微影技術。

隨著三星、台積電的EUV製程相繼成功投產，英特爾也在加速EUV製程進展，未來還有更多中國半導體大廠也將在EUV製程摩拳擦掌，一場世界級的EUV軍備競賽已如火如荼開打，角色如同「軍火商」的ASML自然是最大贏家。

果然，就在10月16日，ASML的第3季法說會上，總裁暨執行長溫彼得（Peter Wennink）揭露令外界眼睛為之一亮的消息，「我們在第3季完成7台EUV出貨，其中3台是NXE:3400C（產能更大的最新型號）。

同時接到來自邏輯與記憶體客戶的23台EUV新訂單，不僅讓創下我們單季最高訂單金額紀錄，達51.11億歐元（摺合新台幣達1763.8億元），也證實邏輯和記憶體晶片客戶均積極將EUV微影技術導入晶片量產。

總結來說，我們對於2019年的整體營收目標維持不變，今年對於ASML來說仍是成長的1年。

」

訂單紛至第4季毛利驚人

展望第4季，溫彼得仍深具信心地表示，預計第4季銷售凈額將達約39億歐元（摺合新台幣達約1346億元），這將創下歷史新高。

此外，第4季毛利率將高達48%~49%之間，大大高於第3季度的43.7%。

利潤預期將會提高的主因來自於EUV微影最新型號機台NXE:3400C，具備更高的ASP（平均銷售價格）。

孫又文指出，「鑒於明年5G部署的前景更加樂觀，在過去的數個月中，對7納米與5納米的需求已顯著增加，」因此，台積電決定將2019年全年的資本支出增加40億美元，以滿足不斷增長的需求。

「在新增的40億美元資本支出中，約15億美元用於7納米產能，25億美元用於5納米產能。

」

而且，孫又文更進一步透露，台積電目前計畫明年的資本支出與修訂後的2019年資本支出有些相似。

換言之，明年台積電的資本支出也與今年不分軒輊，當中也包含採購更多EUV微影設備的費用。

ASML的前景一片光明，讓外資也按贊。

10月16日，摩根大通出具一份報告，給予ASML的評價是優於大盤，並訂定年底前目標價為240歐元，此一目標價格是由於預估2025年每股盈餘將達18歐元，本益比13倍，「我們提高了倍數，以反映出EUV在市場滲透率上有更好的能見度。

」若觀察近期ASML的股價表現，可發現此一論點也頗獲市場認同。

若以平均每兩年推出1個先進納米製程估算，以目前可預知的7納米、6納米、5納米、3納米、2納米製程，憑藉著EUV微影機台，未來ASML至少有10年的好光景。

特別是，隨著半導體大廠軍備競賽打得更加激烈，ASML身為全球獨家EUV設備供應商，也將更展現出贏者全拿的氣勢。

*免責聲明：本文由作者原創。

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