榮耀!「讓水發光」半導體光刻大神林本堅 摘未來科學獎桂冠
文章推薦指數: 80 %
作者:DIGITIMES張語芯
台積電前研發副總經理林本堅,18日在北京榮獲「2018年未來科學大獎--數學與計算機科學獎」。
這項大獎被視為等同「華人界諾貝爾科學獎」榮譽。
林本堅因開拓浸潤式微影系統方法,持續擴展納米級集成電路製造,將摩爾定律延伸多代,而摘得桂冠。
這距離他在2002年正式發表浸潤式微影系統方法理論已近16年,當時他身任台積電研發資深處長,如今,獨創的浸潤式顯影技術,已被英特爾等國際半導體龍頭企業普遍採用,成為國際半導體藍圖主流架構。
今年是集成電路發明60周年,這一位「讓水發光」的半導體光刻工藝「大神」獲殊榮,於行業與個人都意義深遠。
林本堅也被公認是半導體界具重大貢獻的科學家和發明家。
林獲獎感言 鼓勵年輕人勇於創新
林本堅在獲獎致詞時,特別希望激勵青年人投身科學。
他表示,科學就是探索真理的路徑,對於年輕人來說,興趣、基本功、創意和好奇心缺一不可,但一山還有一山高,身處高手如雲中,唯有堅持誠信(integrity)優勢才更大。
他回顧過去職場生涯,Integrity:誠信、正直、操守,才能更進一步。
而服務過的兩個公司,IBM和台積電都強調永續經營,能夠讓他提出的新技術應用得以有發揮舞台。
2002年提出顛覆性創新 語驚四座
台上數分鐘,台下十年功。
一獎殊榮,道盡他在半導體業界的巨大貢獻與多年從事科學研究的堅持。
浸潤式微影系統方法理論是林本堅2002年受邀參加國際光電學會技術研究會時正式發表。
當時,林本堅在一場國際光電學會技術研討會中專題演講,指出當時設備商積極研究的157奈米波長乾式機台,鏡頭成本過高,還不如用主流193納米機台加入高純度水為媒介,得出比157納米還短的143納米波長。
沒想到此語一出,驚動四座,更令2000位專家譁然!
林本堅說,當時所有設備商已投入數10億美元開發157乾式機台,所以微影設備廠商對他提出的理論都抱觀望態度。
他整整花了一年時間四處奔走向設備廠遊說這個理論的可行性,直到2003年12月國際半導體技術藍圖(ITRS)年會正式將浸潤式微影技術列入正式討論項目。
業界也紛紛焦點轉移到他所提出的193納米濕式工藝,反倒是主角157納米逐漸淪為配角。
2003年年底,荷蘭設備廠ASML與台積電共同開發出全球第一台193納米浸潤式微影機,立即獲得台積電率先下單;原本力主開發157納米波長的IBM,也將浸潤式微影技術納入先進研發部門;而緊接著幾年,ASML與台積電更合作著手研發第二代193機台。
孰料自此改變晶片工藝的技術方向。
2004年台積電率先採用 自此拉開競爭優勢
2004年年底,台積電宣布,193納米浸潤式微影機台,產生出第一批90納米晶片,通過內部認證。
台積電證明,浸潤式微影機不僅只是理論,而是一套可實際納入量產的工藝,並且視為布局45納米的「秘密武器」,從此,也造就台積電首次主導了業界規格。
當時台積電向世界證明確實可行,也得以讓台積電在先進45納米、32納米工藝拉開與對手好幾年的領先差距。
當時力挺林本堅的頂頭上司,台積電前CEO蔣尚義(時任研發副總)則回憶,2003年中到2004年整整一年之間,浸潤式機台全球僅獲得1張訂單,唯一的客戶就是台積電;但後來卻暴增至10家半導體業者紛紛下單;相較之下,157納米乾式微影機台訂單數量銳減,顯示廠商對浸潤式微顯影技術的信心大增。
浸潤微影商用 克服重重難關
林本堅說,當時業界都以為193納米已經走到盡頭了,誰知道「遇到水」一切都改變。
通過浸潤式微影技術,可以讓193納米光波透過水,將IC技術節點從65nm循產業路線圖持續降至7nm,使得摩爾定律得以持續延伸了七代。
根據IEEE近期的數據統計,浸潤式微影技術製造了至少世界上80%的電晶體。
林本堅便主張,若能善用善用193納米波長,只是加高純度水的浸潤式機台,成本較乾式193納米機台多出1至2成價格,但怎麼算都比157機台整套顯影劑、光罩、光阻及蝕刻材料大幅翻新還要划算。
不過,要推翻當時的既定認知,確實存在很多技術障礙,包括浸潤工藝步驟都可在台積電內部完成,但仍有一層光罩曝光、顯影送至設備商ASML進行,後續再送回台積電加以完成,要與設備商緊密合作,才能分段完成。
還有,以往乾式微影是在無塵室中,以空氣為媒介,光經光罩顯影在空白晶圓上顯影,而浸潤式微影則利用水作為透鏡,在晶圓與光源之間加一層水。
不過,水與工藝中使用的光阻劑產生變化,以及水中的氣泡,足以使晶圓曝光過程中產生許多瑕疵,尤其當機台以每秒50公分速度移動,產成的微氣泡可能損及晶圓上的成像,這些都是浸潤式微影遇到很大的困難,一一克服。
母親一台老相機 啟發他對光好奇
半導體關鍵技術就是微影學,全球精於此的兩隻手指頭數得出來,林本堅是排名很前面人。
就連台積電高管為了了解這領域,都要拜讀林本堅論文。
說起「微影學」是他畢生的最愛。
從小生長在越南華人村,讓他對「光」產生啟蒙的,是母親送他的一台老式的照相機,啟發他對光的好奇,一生與光結下不解之緣,甚至國外念書時,也以幫女友拍照為由,開啟生平第一次約會,後來這位女主角就是他的一生伴侶。
年輕時他在美國俄亥俄州立大學專研雷射研究時,共發表過63篇論文、獲得35項專利,畢業後加入IBM,一工作就長達20年,他帶領IBM團隊開發最新的0.5微米工藝,成為微影界的翹楚,後來台積電董事長張忠謀決定找科學家來帶領微影團隊,過程中尋覓了2年,最後相中林本堅。
但他笑說「她(老婆)是台大動物系的高材生,在校的成績比我好」今年,正逢林本堅伉儷結縭50周年,他沒忘了當初當攝像「模特」的老婆始終默默支持他,有感而發說,「假使我有什麼成就,太太的功勞是不容埋沒的」。
三星加速引進EUV設備拚2017年量產7納米
三星電子(Samsung Electronics)決定引進極紫外光微影製程(EUV)設備,加速發展晶圓代工事業,意圖加速超越台積電等競爭者。不僅如此,最近三星電子還開放為韓系中小型IC設計業者代...
拚死追趕台積電 傳三星砸1.78億美元買EUV設備
三星電子加緊追趕台積電,全力衝刺製程微縮。據傳三星電子在Note 7回收焦頭爛額之際,仍砸下重金,採購生產晶圓的極紫外光微影(Extreme Ultraviolet lithography、EU...
2016年EUV降臨 半導體格局生變
在9月份召開的「SEMICONTaiwan2014」展覽會上,ASML公司的台灣銷售經理鄭國偉透露,第3代極紫外光(EUV)設備已出貨6台。鄭國偉同時指出,ASML的EUV設備近期取得驚人突破,...
台積電功臣林本堅:我們過去被光刻嬌縱慣了
本文轉自微信公號「未來論壇」 (futureforum)2018年9月8日,林本堅因開拓浸潤式微影系統方法,持續擴展納米級集成電路製造,將摩爾定律延伸多代榮膺2018年未來科學大獎—數學與計
不要被媒體帶節奏,從來沒什麼光刻機禁售……
歡迎關注我們,獲取更多相關文章光刻機包括很多種類,先明確一下,本文說的光刻機就是指生產最先進邏輯晶片所用的那個謠傳不賣給中國的設備。這個東西,現在是ASML一家獨大。在ASML一家獨大的局面形成...
假如沒有林本堅 就沒有今天的台積電
來源:商業周刊他改變了全球半導體產業技術路徑,讓老大哥英特爾(Intel)及設備商艾斯摩爾(ASML)、尼康(Nikon)等業內巨頭,捨棄耗費逾10 億美元和數年的研究心力,跟著他與台積電一起轉...