台積電和三星7nm競賽正式開打，EUV成為關鍵

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三星、台積電10 納米技術量產，7 納米製程戰火持續升高！而且隨著關鍵的微影技術來到瓶頸，7 納米製程技術也變成新一輪製程技術的關鍵之戰。

除了三星在去年年中傳出急購EUV 機台，力拚2017 年底量產7 納米，台積電在上周12 日法說會首度明確指出，在7 納米製程第二年，就會導入EUV 減少光罩層數，至5 納米製程全面採用EUV。

台積電總經理暨共同執行長劉德音曾透露，10 納米與7 納米將有95% 設備是共用，也因此台積電此前表明，至5 納米才會正式轉進EUV，現在三星、台積電在7 納米將一前一後用上EUV，先進位程也正式宣告進入新一階段技術競賽。

隨著先進位程來到10 納米以下，製程微縮瓶頸一一浮現，尤其是製程中難度最高的微影技術，目前主流多採用193 納米浸潤式微影技術，但從65 納米製程到現在一路突破物理極限至目前10 納米，面臨的不只是物理上的瓶頸，愈來愈複雜的圖形造成曝光次數增加，光罩成本也跟著倍增。

摩爾定律價格不變，積體電路上可容納的電晶體數量每隔18~24 個月會增加一倍的目標變得窒礙難行，極紫外光（EUV）微影就被視為摩爾定律能持續往下走的關鍵。

EUV先前因光源強度與生產量未達經濟效益，遲遲未能量產。

據目前EUV設備製造商艾司摩爾（ASML）在去年11月EUVL Workshops透露的進度，EUV光源強度已能達到125W，預計2018年能達到光源強度250W，可支持每小時生產125片晶圓的量產目標。

屆時三星與台積電正好走至7納米製程。

距離台積電2020年5納米量產，EUV或許更能接近浸潤式微影設備每小時能生產逾200片晶圓的生產效益。

晶圓製造商先前已陸續安裝EUV 進行試產，三星在2015 年7 月即攜IBM，利用EUV 打造7 納米晶片原型，2016 年中再有消息指出，三星砸重金採購新的NXE 3400 EUV 機台，將於7 納米就導入EUV 技術以力抗台積電等對手。

而台積電先前即擁有兩台NXE 3300 EUV 設備，據悉在今年第一季又再引進了兩台NXE 3400，另外，有消息指出，艾司摩爾大客戶在7 納米同樣有意導入EUV。

從艾司摩爾18 日的最新數據，加上2016 年第四季再獲得的4 台訂單，目前EUV 設備累積訂單數量已達18 台。

然EUV 機台並不便宜，一台EUV 光刻機要價逾1 億美元，是其他微影技術設備金額的兩倍，這場製程競賽，比技術也比銀兩，競爭門檻跟著愈墊愈高。

追逐新工藝需求帶旺ASML，2018 EUV產能達到24台

歐洲最大半導體設備廠艾司摩爾（ASML）18日發布優於市場預期的第4季財報，並表示最新、最貴的機器訂單已接到2018年初。

ASML上季凈利由一年前的2.92億歐元增至5.24億歐元（5.6億美元），優於分析師預估的4.14歐元。

第4季營收成長33%至19.1億歐元，連續第四年營收成長。

ASML該公司預計今年第1季利潤率約為47%，營收為約18億歐元（19億美元），高於分析師平均預計17.6億歐元，以及一年前的13.3億歐元。

ASML股價18日早盤勁揚5.7%，為2016年1月21日以來最大漲幅。

ASML的股價過去一年已上漲50%，公司市值達476億歐元。

最新光刻系統的展望佳，對艾司摩爾至為重要，這是該公司能否持續主宰市場及達成2020年前年銷售110億美元的關鍵因素。

艾司摩爾執行長溫彼得（Peter Wennink）說，2016年肯定是重要的轉捩點，「從我們的訂單可以看出來」。

該公司上季拿到15.8億歐元的新訂單，包括六部新極紫外光（EUV）光刻機，每部價值約1億歐元，而且需一年時間建置。

以ASML目前的產能每年可生產12部EUV，2018年前將擴增至24部。

報導指出，艾司摩爾2017年所有EUV機器都已賣掉，而且2018年的首批訂單也到手了。

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