賣掉ASML股份，三星在工藝競爭中會落後麼？

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根據《路透社》與《彭博社》 的報導，南韓三星電子8 日表示，將出售其歐洲子公司手中所持有的荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾(ASML) 控股的部分股份，其總價大約為6.06 億歐元(摺合新台幣約213.57 億元) 。

報導中指出，根據三星所公布的交易細節顯示，三星歐洲子公司將以大約6.06 億歐元的價格出售630 萬股ASML 股票，其比率約占ASML 整體股權的1.45%，而交易將在9 月12日完成。

三星表示，此次股權的出售不會影響兩家公司的戰略夥伴關係。

而依據三星在8 月16 日提交的監管的文件中顯示，三星在子公司出脫ASML 股權之前，總計持有1,260 萬股ASML 股票，持股比率占整體股權的2.9% 。

而為了更新一代晶片的量產，必須用到ASML 專業的極紫外光檢測技術。

因此，三星在2012 年同意認購ASML 約3% 的股權。

而三星的兩家競爭對手英特爾(Intel) 及台積電，也在同年分別對ASML 進行了41 億美元與11 億歐元的投資，分別取得該公司15% 與5% 的股權。

不過，2015 年台積電即全部處分了ASML 股權，獲利6.95 億美元。

目前，ASML的微影設備在全球市占率超過60%，是整個晶圓製造和半導體產業的關鍵機台。

而在各大晶圓代工廠先進位程向10 納米，甚至更進一步的7 納米或5 納米製程進展之際，ASML 握有的極紫外光檢測技術，更是延續半導體製程摩爾定律的重要技術。

唯有其技術成熟後，全球半導體產業才有機會向下一個世代邁進。

而2016 年6 月，ASML 宣布以總計新台幣1,000 億元的金額，收購台灣電子檢測術廠商漢微科，並且在2016 年8 月下旬通過台灣投審會的審核。

早在2012年，英特爾(Intel)大手筆投入41億美元，包括買入15%股權的31億美元，以及後續投入研發費用的10億美元。

在英特爾入股之後，另一個晶圓大廠三星電子(Samsung Electronics)與台積電(TSMC)也接受該公司的提議，買入股權及共同開發。

在幾大晶圓廠都在追進最新工藝節點的時候，三星的退出讓人有點費解。

ASML為什麼能吸引全球半導體公司的目光

ASML究竟有什麼魅力，讓全球的半導體或晶圓代工業者，手捧大筆資金搶著加入呢？ASML是成立於1984年的荷蘭設備業者，也是三星、SK海力士(SK Hynix)等多家半導體製造業者的設備供應商，更是全球排名第1的半導體設備業者。

2011年的營收為57億歐元(約68.8億美元)。

即使在半導體業相當不景氣時，仍能有24%的業績成長。

根據ZDNet的報導指出，ASML的主力產品為光刻設備(lithography)，是種在基板上刻畫細微電子迴路的裝備，主要的競爭對手為尼康(Nikon)等，但這些業者的成長率皆不到10%。

ASML不但在光刻領域是第1，放眼全球的設備業也是第1。

對半導體的先進位程而言，未來如果開發出極紫光的光刻設備(EUV光刻設備)，450mm(18吋)的晶圓設備也將出現。

正如ASML本身在年報上所說，：「我們是全世界領先的微影設備商（Lithography Equipment）。

」實際上，全球前十大半導體製造商，全部都是它的客戶，市占率達三分之二。

換言之，艾司摩爾的技術到哪裡，全球半導體的製程就在哪裡。

微影設備，就是用極微弱的光，將電路藍圖縮小印在晶圓上，是ＩＣ製程中最關鍵的角色。

台積電想印出更小、更精確的電路，想做出更大的矽晶片以提升產能，端看微影機能將電路圖縮到多小、拍照面積多大。

而艾司摩爾的產品保證每一項都是極限。

過去台積電曾經成功開發出「浸潤式曝光」，可以應用在二八納米製程，要實現產能，還是得靠艾司摩爾生產的微影機。

艾司摩爾的一台二八納米微影機從八千萬美元（約二十四億台幣）起跳，包含其他機種，一年平均只生產三百台。

聽起來不多，但它去年的營收高達五十六億歐元（約二千億台幣），而且現在下訂單，二年後才能交貨，可見得全球廠商「搶機台」的情況。

掌握EUV，成為晶圓廠的香餑餑

EUV是ASML獲得關注的重中之重，其史上最昂貴的「工具機」——EUV機台，會在2017年開始試產的七納米製程大發神威，成為主力機種。

EUV堪稱半導體設備發展以來最昂貴的設備，一台售價高達9,000 萬歐元(約新台幣36億元)，這項設備也是半導體產業向更先進位程發展最關鍵設備，因此發展進度，一直各界關注焦點。

我們知道每年生產上百億片的手機晶片、記憶體，數十年來都仰賴程序繁瑣，但原理與沖洗照片類似的曝光顯影製程生產。

其中以投射出電路圖案的微影機台最關鍵、也最昂貴。

過去十多年，全球最先進的微影機，都採用波長193納米的深紫外光，然而英特爾、台積電量產的最先進電晶體，大小已細小到僅有數十個納米。

這形同用同一支筆，要寫的字卻愈來愈小，最後筆尖比要寫的字還粗的窘境。

要接替的「超細字筆」，技術源自美國雷根時代「星戰計劃」，波長僅有13納米的EUV；依照該技術的主要推動者英特爾規劃，2005年就該上陣，量產時程卻一延再延。

因為這個技術實在太難了。

EUV光線的能量、破壞性極高，製程的所有零件、材料，樣樣挑戰人類工藝的極限。

例如，因為空氣分子會干擾EUV光線，生產過程得在真空環境。

而且，機械的動作得精確到誤差僅以皮秒（兆分之一秒）計。

最關鍵零件之一，由德國蔡司生產的反射鏡得做到史無前例的完美無瑕，瑕疵大小僅能以皮米（納米的千分之一）計。

這是什麼概念？艾司摩爾總裁暨執行長溫彼得（Peter Wennink）解釋，如果反射鏡面積有整個德國大，最高的突起處不能高於一公分高。

「滿足這類（瘋狂）的要求，就是我們的日常工作，」兩年前由財務長接任執行長的溫彼得說。

因為EUV的技術難度、需要的投資金額太高，另外兩大微影設備廠──日本的Nikon和佳能，都已放棄開發。

艾司摩爾儼然成為半導體業能否繼續衝刺下一代先進位程，開發出更省電、運算速度更快的電晶體的最後希望。

「如果我們交不出EUV的話，摩爾定律就會從此停止，」溫彼得緩緩地說。

因此，三年前，才會出現讓艾司摩爾聲名大噪的驚天交易。

也就是三年前台積電、Intel和三星那筆交易的成因。

ASML總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink在今年年初公布第2016年第1季財報後，也針對EUV進展，公布重大突破。

他強調，ASML的目標是在今年持續強化EUV系統的生產力和妥善率，並計畫在今將機台生產力提升到每天曝光1,500片晶圓。

他說，今年首季，ASML的EUV系統即展現每天曝光350片晶圓的實力。

在妥善率方面，三個客戶端的EUV系統都展現連續四周平均妥善率達80%以上的成果。

至於首季已出貨一台最新EUV微影系統NXE:3350B，計劃第2季出貨兩台EUV系統。

ASML首季也推出深紫外光(DUV)最新型浸潤式機台NXT:1980，並出貨6台，且快速將生產力拉升到每天4000片晶圓的水準。

這套系統將應用在即將邁入試產的10納米製程。

ASML也於本季推出最新一代的整合式量測系統YieldStar 350E，提供晶圓更準確的量測結果來做後續分析。

ASML昨天公布首季營收13.3億歐元，毛利率42.6%，雙雙超標，本季預期在客戶導入新的浸潤式機台為10納米量產做准，且擴增28納米製程產能，樂觀預期會有強勁成長。

現狀和思考

從目前的狀況開來，ASML的EUV機台不僅貴，且可能在產能上也會跟不上，隨著台積電和Intel的工藝推進，三星的這次減持會否對其在ASML中的話事權減弱，影響到下一代的工藝推進就不得而知。

但接下來的半導體發展工藝推進離不開ASML是毋庸置疑的。

而從三星近來的表現來看，雖然OLED的表現不錯，但手機方面備受壓制，而最近NOTE7的全球退貨事件也對其造成了直接的影響。

這次減持是否有一部分是財政原因，那就有待業界更深入的分析了解啦。

摩爾精英

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