三星掀半導體軍備競賽：斥巨資向ASML訂購15台EUV設備

2020-08-31

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（觀察者網訊）

在台積電宣布7納米強效版及5納米導入EUV（極紫外光）微影技術且量產後，近日三星決定向荷蘭ASML訂購15台EUV設備，此外英特爾、美光、海力士也規劃採用EUV技術，導致僧多粥少，全球半導體行業掀起爭搶EUV設備大戰。

據《韓國先驅報》15日報導，為達成2030年成為全球第一半導體大廠的目標，並超越晶圓代工廠商台積電，搶占未來2到3年的5G商用化所帶來的半導體市場需求，三星已向全球微影曝光設備大廠ASML訂購15台先進EUV設備，價值3萬億韓元，約合181億人民幣，交付分三年進行。

報導截圖

三星電子自2005年進入晶圓代工領域，目前已經7nm EUV技術已實現量產。

三星計劃，6nm製程在2019年下半年開始量產，5nm製程在2020年上半年量產，3nm製程預計在2021年進入量產。

而三星和台積電在先進位程的角逐一直進行，台積電日前已宣布，7納米強效版製程領先業界導入EUV微影技術，並已協助客戶產品大量進入市場，且2020年上半年量產的5納米也將導入EUV製程。

另外，英特爾EUV計劃的負責人Britt Turkot年中表示，EUV技術已經準備好，並且投入大量的技術開發。

內存大廠美光、海力士也計劃導入EUV技術。

尷尬的是，目前全球提供EUV設備的企業僅ASML一家，業界預估ASML一年僅能生產約30台EUV設備，在各大廠相繼投入之下，形成設備機台一機難求，排隊等設備現象。

ASML最新發布的第三季度財報中顯示，該季度他們僅交付了7台EUV光刻機，但當季接到的訂單已達23台，創造了歷史記錄，而三星此次訂購則將消耗ASML近半年EUV設備產能。

據了解，由於EUV極短波長 13.5納米具有強力光線的技術，能夠更完美地解析先進位程的設計，減少晶片生產步驟及光罩層數，高速高頻，對晶片微縮、低功耗要求高，成為延續摩爾定律重要技術。

不過，要駕馭如此複雜且昂貴的系統來製造大批晶片卻是一件難事，三星雖最早宣布7納米製程導入EUV，但先前即傳出生產晶片良率及產量不足。

台積電錶示，7納米一開始未導入EUV，就是因為新技術導入製程需要經歷一段學習曲線。

台積電稱，在7納米強效版成功學習經驗，未來可順利導入5納米製程。

數據顯示，2019年Q3全球晶圓代工產業台積電以50.5%穩坐第一，而近年努力發展先進位程的三星電子以18.5%的市占率位居第二，但三星很顯然不願一直位居次席，一直在擴大半導體投資。

三星今年4月發布一項高達133萬億韓元的系統IC投資，其中60萬億韓元將用於晶圓代工設備投資。

去年8月，三星曾發表3年180萬億韓元投資，其中90萬億到100萬億韓元將用於半導體設備。

業內人士透露，為了超越台積電，三星不僅會增加設備投資，還會通過提供技術競爭力來吸引客戶。

2020-09-12

搶奪EUV光刻機，晶圓廠軍備競賽開打

來源：內容綜合自「聯合晚報」，謝謝。日前，台積電宣布7納米強效版及5納米導入EUV微影技術且成功量產入市後，南韓媒體報導，三星向半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）下訂15台EUV設備，另外，英特...