ASML收購漢微科 加速三星與積電7納米競爭

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荷蘭設備大廠艾司摩爾(ASML)併購股後漢微科,牽動台積電與三星的製程競賽。

設備業者認為,ASML併購漢微科之後,可能協助三星加快7納米量產,使得台積電與三星的7納米大戰戰火更烈。

業界觀察,三星在10納米製程失利之後,已宣布提前7納米量產計劃,率先在7納米導入ASML量產的極紫外光微影製程(EUV)設備機台。

三星規劃,明年第2季或第3季EUV機台裝設完工之後,明年底就會用於量產7納米晶片。

台積電在7納米製程尚未導入EUV設備。

由於ASML併購漢微科之後,在先進位程機台能量大幅提升,業界密切關注ASML是否會協助三星加快7納米布局,以及台積電後續因應動作。

台積電錶示,對ASML併購漢微科持肯定態度,預期以ASML雄厚財力,可以讓漢微科有更大的後盾,支持在電子束檢測更先進的研發。

對於三星提前在7納米採用EUV微影製程,台積電錶示,考量目前EUV設備還有很多技術瓶頸,公司才決定不在7納米導入使用,將緊盯對手發展。

台積電強調,若EUV設備在2018年更成熟,該公司也會採取應變對策,絕不會讓對手取得先機。

帆宣信邦戰略地位提升

艾司摩爾(ASML)宣布以新台幣千億元併購漢微科之後,將強化在台研發能量及採購比重,ASML在台四大夥伴帆宣、公准精密、信邦,以及大銀等台灣業者,重要性同步拉升。

ASML很早就與台灣建立關係,1988年由漢民代理台灣業務,2007年進一步在台成立卓越創新中心,陸續將全球訓練中心、二手設備翻修業務,以及子公司YieldStar量測系統生產線移到台灣,就近服務客戶及支援全球。

ASML並把亞洲採購中心移到台灣,從台灣上百家供應商中,幾經輔導評核等程序,選出帆宣、公准、信邦、大銀等成為ASML主要供應商,間接協助提升台灣半導體業整體技術能力。

閱報秘書 EUV

極紫外光微影製程 (EUV)技術是次世代微影技術之一,被半導體業視為跨入10納米製程以下,取代傳統浸潤式曝光(Immersion)、延續摩爾定律的一項重要微影技術。

浸潤式曝光機台是在光源與晶圓中間加入水的原理,使波長縮短到132納米的微影技術;EUV曝光設備是利用波長極短的紫外線,在矽基板上刻出更微細的電路圖案。

EUV售價昂貴,一台售價高達7,000萬歐元(約新台幣25.6億元),主力設備開發廠艾司摩爾(ASML)為降低開發風險,過去曾要求英特爾、三星及台積電以入股,共同參與這項先進微影技術開發,如今相關量產設備已陸續出貨,和浸潤式曝光機搭配使用,開始導入在10納米以下先進位程。

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