台積電張忠謀慘遭打臉國產光刻機迎重大突破:7nm國產芯指日可待
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[6月8日]相信大家都知道,美國最近對華為海思半導體半導體晶片發布了新的「新的銷售禁令」。
因此,許多公司已經開始「清除」與華為的關係。
在網際網路上肆虐的「謠言」甚至直接迫使台積電,聯發科和其他官員緊急挺身反駁這些謠言。
這些虛假報導大部分來自日本媒體「日經中文網」。
從目前的情況來看,華為真的希望面臨許多非常困難的問題,除了要切斷谷歌的「系統服務」的供應外,它還必須面對更多晶片組件的切斷。
儘管從手機SOC晶片到WIFI晶片,RF晶片等,華為擁有世界一流的晶片設計能力,但幾乎所有的手機核心部件都在努力實現本地化,但是由於華為沒有晶片製造能力,因此大多數該晶片目前由台積電和中芯國際生產。
。
但是,在美國「新禁令」的影響下,也許在120天緩衝期結束後,台積電和中芯國際等晶片代工廠巨頭將無法再為華為提供先進的晶片代工技術,甚至許多消費者中芯國際寄予厚望,但似乎並沒有太強大。
中芯國際在最近宣布的招股說明書中說:「由於該公司的某些半導體設備和技術來自美國,因此不可能獲得美國商務部的批准。
一些客戶生產產品。
」毫無疑問,這「幾個客戶」包括華為海思。
的確,如果中芯國際繼續向華為提供晶片代工技術,那麼中芯國際也可能會與美國完全面目全非,無法繼續獲得美國的半導體設備及相關組件,技術等。
業界的「困境」,最迫切需要解決的是國內光刻設備,因為目前國內晶片產業鏈依賴於ASML高端光刻設備,但是對於國內晶片製造的升級改造,這位前台創始人張忠謀也發布了狠話:「晶片業務非常複雜,大陸不可能花很多錢在全國範圍內投資,因此大陸在半導體製造業上不容易超越。
」
不過,面對台積電張忠謀,實際的答案也是耳光。
被毆打的張忠謀可能從未想過家用光刻設備會迎來如此重大的突破。
根據最新消息,上海微電子將在一年內正式交付第一台28nm光刻設備;
也許許多網民會在聽到28納米製程技術後,感嘆此晶片製造工藝已放置在智慧型手機晶片上。
它早已「過時」。
實際上,即使是低端手機也已開始採用14nm和12nm工藝。
處理晶片,但實際上,這款將於今年年底下線的上海微電子SSA /
800-10W光刻機將使用ArF光源,配准精度約為1.9nm,單次曝光可以直接達到28nm製程(軟體操作介面),可以在多次曝光下實現11nm製程技術的晶片生產。
如果使用具有更高套准精度的華卓晶科工作檯(1.7nm),則可以在多次曝光下實現7nm製程技術。
晶片生產;這也意味著7nm工藝技術晶片也將毫無問題地用於更大的應用,例如智慧型手機,智能手錶,電視晶片,路由器,5G基站等。
最後寫到:也許許多網民從未想到,過去幾年,國內的光刻機技術一直停留在90nm製程技術上,但是我沒想到現在它已經迎來了跨越式的增長,上海微電子也外界表示將支持中芯國際和華為,這意味著在上海微電子和中芯國際的大力支持下,華為海思半導體晶片業務「供不應求」的問題也將得到徹底解決;國產光刻設備的發展和台積電被重打的張忠謀的言論。
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