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中國晶片頻繁傳來捷報，國產光刻機打破技術封鎖，將追趕荷蘭ASML

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在中國科技發展的數十年時間中，晶片技術受限於人也成為了當前困擾中國科技發展的一大短板，畢竟在相比之下，我國在晶片領域的起步較晚，所以龐大的電子產業結構也需要長時間依賴於進口晶片。

可是在這個過程中，我國企業不僅沒有議價權，同時還要面臨著卡脖子的情況。

近兩年，美國肆意打壓中國科技企業的手段可謂是越發無恥和露骨，所以在中興和華為事件的接連發生後，也對我國龐大的電子產業結構敲響了警鐘，掌握晶片技術迫在眉睫。

於是在國家和各行各業的高度重視下，也在晶片研發方面投入了大量的人力物力和財力，使得中國晶片頻繁傳來捷報。

大家都知道，晶片的研發和生產包括兩大環節，一個是設計，另一個則是製造，可是困擾我國晶片產業發展的並非是設計環節，畢竟包括華為海思、紫光展銳等中國半導體公司均在晶片設計領域與國際水平接軌。

可是隨著時間的流逝，晶片製造環節也頻繁傳來了捷報。

第一大捷報，晶片代工領域。

當前，關於台積電斷供華為海思晶片的消息此起彼伏，要知道當前台積電在全球晶片代工領域有著絕對的地位，因此在脫離台積電之後，也會對華為晶片業務造成嚴重影響。

而在這個關鍵時刻，作為國內晶片代工巨頭的中芯國際成功量產14nm工藝製程，並將在今年第四季度投產7nm工藝製程，所以這樣一來也將造福華為麒麟晶片。

第二大捷報，光刻機層面。

作為晶片製造過程中不可或缺的設備，光刻機的重要性同樣不言而喻。

但有礙於光刻機技術始終掌握在荷蘭ASML公司手中，再加上《內瓦森協議》和美國的干擾，使得荷蘭ASML公司光刻機不對華出口，因此在缺乏光刻機設備的背景下，直接拖累了我國晶片產業的發展。

好在上海微電子成功突破技術局限，將在2021年交付首台國產28nm光刻機，雖然與當前7nm工藝製程有著很大差距，但是也可以進一步縮小國產光刻機與荷蘭ASML公司的差距。

因此，上海微電子成功研發出首台國產28nm光刻機一事，對於中國晶片發展而言也是一大重要的里程碑。

最後，除了上海微電子之外，武漢甘棕松團隊採用二束雷射在自研的光刻膠上突破了光束衍射極限的限制，採用遠場光學的辦法，光刻出最小9nm線寬的線段，實現了從超分辨成像到超衍射極限光刻製造的重大創新。

所以，一旦將該技術運用到光刻機領域，那麼我國實現趕超荷蘭ASML公司也指日可待。

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