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台積電張忠謀慘遭打臉!國產光刻機迎重大突破:7nm國產芯指日可待

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【6月8日訊】相信大家都知道，美國近日又對華為海思半導體晶片頒發了全新的「禁售新規」，對此很多公司都紛紛開始和華為『撇清』關係，而面對網絡上肆虐的「謠言」，甚至直接逼迫台積電、聯發科等官方緊急出面闢謠，而這些虛假報導絕大部分都來自於日媒《日經中文網》的報導，從目前情況來看，華為確實要面對很多非常棘手的問題，除了要因對谷歌的「系統服務」斷供以外，同時還要面臨更多的晶片元器件產品斷供，雖然華為擁有全球頂尖的晶片設計能夠力，從手機SOC晶片，到WIFI晶片、射頻晶片等等，幾乎所有手機核心元器件都在努力實現國產化，但由於華為並不具備晶片製造能力，所以目前絕大部分晶片都由台積電、中芯國際所代工生產。

但在受到美國「禁令新規」影響下，或許在120天緩衝期結束後，台積電、中芯國際等晶片代工巨頭都將無法繼續為華為提供先進的晶片代工技術，就連很多消費者寄予厚望的中芯國際，似乎也不太給力，中芯國際在最近公布的招股書中表示：「由於公司若干半導體設備、技術都來自於美國，所以在獲得美國商務部許可之前，將無法為若干客戶進行生產製造產品。

」毫無疑問，這個「若干客戶」就包含華為海思半導體在內。

確實如果中芯國際繼續為華為提供晶片代工技術，那麼中芯國際或許也將會徹底和美國撕破臉皮，而無法繼續獲得美國半導體設備以及相關元器件、技術等等，而對於目前國產晶片產業「困境」，最急需迫切解決的就是國產光刻機設備，因為目前國產晶片產業鏈最為依賴的就是ASML高端光刻機設備，但對於國產晶片製造升級轉型，此前台積電創始人張忠謀也是放出狠話：「晶片業務很複雜，不是大陸花很多錢、投入舉國之力就能夠成的，所以大陸在半導體製造方面並不容易超越；」

但現實答案很也是狠狠扇了台積電張忠謀一巴掌，慘遭打臉的張忠謀，或許從未想過，國產光刻機設備竟然能夠迎來如此重大的突破，根據最新消息顯示，上海微電子將會在一年內正式交付首台28nm的光刻機設備；

或許很多網友們在聽到28nm製程工藝後，也會紛紛感嘆這樣的晶片製造工藝放在智慧型手機晶片上，早已經「過時了」，確實目前就連低端手機都已經開始採用14nm、12nm製程工藝的晶片，但實際這台即將在年底下線的上海微電子SSA/800-10W光刻機，會採用套刻精度則在1.9nm左右的ArF光源，單次曝光可直接實現28nm製程（軟體操作介面），多次曝光下更是能夠實現11nm製程工藝的晶片生產，如果改用套刻精度更優的華卓精科工作檯（1.7nm），在多重曝光下更是能夠實現7nm製程工藝的晶片生產；這也意味著7nm製程工藝晶片，也將會得到更大的應用，被應用於智慧型手機、智能手錶、電視晶片、路由器、5G基站等方面，都是沒有任何問題的；

寫在最後：或許很多網友都未曾想到，在前幾年時間裡，國內的光刻機技術一直都停留在90nm製程工藝技術上，沒想到現在竟然迎來了跨越式崛起，同時上海微電子還對外表示將會力挺中芯國際和華為，這意味著在得到上海微電子、中芯國際的大力支持下，華為海思半導體晶片業務「斷供」問題，也將會徹底的得到解決；對於國產光刻機設備所取得進步，以及慘遭打臉的台積電張忠謀的一番言論。

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