文章標籤：台積電晶片工藝兩年就要投產明年光刻機

台積電3nm晶片工藝兩年後就要投產，我們卻明年才能有28nm光刻機

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最近我們的上海微電子才宣布明年就能交付28nm的光刻機，現在國外媒體報導台積電兩年後就將開始3nm晶片製造工藝技術。

同時報導稱，台積電的3nm晶片製造將首先製造蘋果的A16處理器。

當人家已經擁有了5nm的光刻機的時候，當人家已經宣布將使用3nm晶片工藝製造CPU的時候，我們預計明年才能研發出28nm的光刻機。

我們的28nm光刻機到底有何意義？

台積電現在已開始建造 3 納米相關的生產線和配套設施，明年就能進行風險試產後年就能批量生產，使用 3 納米製程的蘋果 A16 晶片也將在後年問世。

而現在台積電已經能量產 5 納米晶片，據報導台積電已經開始為iPhone 12 生產 5nm 的蘋果 A14 晶片。

而華為研發的麒麟1020晶片（還有說是麒麟1000晶片），現在被制裁的沒有可以代工的晶片生產廠商。

最主要的原因就是 5nm的光刻機技術受制於別人，而我們上海微電明年交付的光刻機也才 28nm。

台積電股東大會還宣布了，將投資 120 億美元在美國建廠生產高端晶片，以後的蘋果的A處理器也將回到美國生產。

而我們的麒麟晶片等海思的各種晶片，可能因為光刻機等設備技術的原因，沒有廠商能夠代工。

不得不說，華為真的到了生死存亡的關頭，四面受敵。

早幾年法國和日本東芝等事件，再到最近幾年發生的中興事件、制裁中國科技公司事件和華為被制裁事件，我們清楚的認識到了中國在半導體晶片領域的薄弱，還有看到了華為的磨難。

中國現在只有一家自己的國產光刻機廠商，就是上海微電子裝備股份有限公司，但是技術與國外還存在較大差距。

1984年國外的ASML就成立了，而上海微電子2002年才成立，兩者相距18年時間。

目前上海微電子的光刻機可以應用於集成電路產業鏈中晶圓製造、封裝測試、平板顯示、高亮度 LED 等領域。

上海微電子已量產的光刻機中性能最好的最高可實現 90nm 製程節點，而ASML 的 EUV 3400B 製程節點已經達到了5nm。

上海微電子將於2021年交付28nm光刻機，對我國集成電路產業發展有什麼意義呢？雖然這個28nm光刻機與ASML目前最先進的5nm EUV光刻機相比，仍有著很大的差距。

但是對於中國的半導體產業來說意義非凡。

因為晶片不僅僅是用在手機上，在現代工業中28nm仍是比較主流的製程工藝節點。

上海微電子28nm光刻機的推出，將打破國外廠商的對於IC前端光刻機市場的壟斷。


希望大家看看法國和日本東芝等事件，看看中興事件和制裁中國科技公司事件，再看看華為被制裁的事情。

希望大家都能支持國產，腳踏實地一步一步追趕超越。

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