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28nm國產光刻機終於迎來曙光，上海微電子公司逐漸突破技術封鎖！

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去年的中興事件讓國人充分認識到自主研發的重要性，尤其在半導體晶片領域。

今年5月，美國針對華為發布更加嚴苛的出口管制措施，目的就是從華為供應鏈最重要的一環晶片供應上制裁華為！

華為以往的高端晶片全都由台積電代工生產製造，在美國禁令頒發後台積電無法繼續代工海思麒麟系列晶片，那麼華為的晶片製造就遇到巨大麻煩，因為只有台積電才能為華為代工7nm甚至5nm晶片，像國內的半導體代工巨頭中芯國際也做不到，背後的原因就是晶片製造領域的關鍵設備光刻機，尤其是7nm高端光刻機。

光刻機按照用途可以分為IC 前道光刻機、封裝光刻機、面板光刻機以及 LED/MEMS/功率器件光刻機。

大家平時所說的生產晶片的屬於IC前道光刻機。

而目前IC前道光刻機市場幾乎被荷蘭的ASML、日本的尼康跟佳能所占據，其中ASML是光刻機領域的老大，並且壟斷EUV光刻機市場，全球僅有ASML可以生產EUV光刻機，其工藝水準最高可以生產5nm製程工藝的晶片，生產華為麒麟 990的7nm EUV光刻機也是來自ASML。

再來說說我們的國產光刻機，目前來講IC前道光刻機主要依賴進口，國產化很低。

像國內半導體代工巨頭中芯國際才最高的14nm工藝光刻機也是來自於ASML，並且中芯國際還在2年前向ASML花費大量資金訂購了一台7nmEUV光刻機，但是迫於美國方面壓力，這台光刻機現在也沒到貨。

那麼我們國家有自己生產製造的光刻機嗎？答案是有的。

國產光刻機領域領頭羊——上海微電子裝備股份有限公司，成立於2002年，主要從事半導體裝備、泛半導體裝備以及高端智能裝備的設計製造銷售，其中光刻設備是公司的主營業務。

其公司生產的SSX600系列IC前道光刻機，最高工藝水平能夠達到90nm，跟ASML的7nm甚至是5nm工藝還有很大的差距。

近日有消息報導，國產28nm光刻機將於明年正式交付。

上海微電子的28nm光刻機雖說跟ASML的5nmEUV還有很大差距，但是放眼國內這已經是能生產的最高水平的光刻機了，相比上海微電子的90nm光刻機提升也很大。

28nm光刻機應該屬於主流晶片工藝，雖說現在的手機晶片都動不動14nm或者7nm工藝，但是相對於其他領域內的晶片比如物聯網、軍用晶片和工業晶片等領域28nm工藝的晶片絕對夠用。

ASML的絕大多數高精零部件也都是進口的，基本上是集成了西方最頂尖技術的結晶，高端光刻機被譽為半導體工業皇冠上的明珠不是沒有道理的，其製造難度不言而喻。

雖說我國光刻機水平距離世界頂級水準差距還很大，但是我們國家科研技術人員一直在努力的追趕，頂尖的技術不是一朝一夕就可以實現的，其中都需要一個漫長的過程，希望我們國家在大量的科研人員的努力下，有朝一日我們國家的光刻機技術也能站在科技金字塔的頂端！

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