三星宣布完成5nm EUV工藝研發,功耗繼續降低20%

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目前,7nm工藝已經逐漸在主流的消費級半導體晶片上普及,移動設備領域有高通驍龍855,華為麒麟980以及蘋果A12。

更加細微的工藝能夠在同面積的載體上放入更多的電晶體,從而提升晶片的性能以及降低功耗。

今天上午,三星官方宣布已經完成5nm EUV工藝的研發,現在已經可以為客戶提供樣品。

官方聲稱,5nm的一個優點是可以將所有7nm智慧財產權(IP)重用到5nm,從而讓7nm過渡到5nm成本大大降低。

至於5nm工藝對性能的提升,三星電子則如此回答。

與7nm相比,5nm FinFFT工藝技術將邏輯區域效率提高了25%,功耗降低20%,性能提高了10%,能夠擁有更多創新的標準單元架構。

三星 獵戶座 9820 並沒有採用7nm工藝

另外,三星正在與6nm的客戶進行合作,據稱這是一個定製的基於EUV的工藝節點,目前已經收到其首款6nm晶片的流片產品。

隨著三星5nm工藝的研發成功,我們可以猜測基於5nm工藝的蘋果華為高通以及三星下一代旗艦級移動端SoC離我們不遠了。


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