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EUV工藝進展良好 台積電2018年Q3收入增長11.6%

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近日，台積電宣布他們使用EUV（極紫外光刻）在第二代7nm技術「N7+」上取得了良好的進展，預計新技術將使晶片功耗降低6-12％，密度提高20％，這對眾多和台積電有合作關係的晶片巨頭來說是個利好消息。

據了解，「N7+」並未完全採用EUV工藝，而是僅限其中的四個非關鍵層，可以說是台積電在應用EUV技術上的「小試牛刀」，這也給他們預留了充足的時間去發掘如何更好的利用新技術來提高產能並解決可能遇到的問題。

7nm之後台積電的目標是5nm，內部稱為「N5」。

新工藝將在最多14層上應用EUV，預計將於2019年4月開始風險生產。

根據台積電的說法，除了PCIe Gen 4和USB 3.1之外，它們的許多IP模塊已經為N5做好了準備。

台積電在EUV技術上的良好進展也使得公司今年Q3季度的收入取得了不錯的成績，報告稱公司2018年第三季度的綜合收入為2.630億新台幣，約合841萬美元，比上一季度增長11.6％，同比增長3.2％。

市場觀察人士表示，台積電第三季度的收入好於預期。

根據此前的消息，隨著聯電、GlobalFoundries先後退出先進工藝競賽的行列，全球目前有能力研發7nm及以下工藝的僅剩下台積電、三星及英特爾三家，而台積電在7nm、5nm上的進展相比其他兩家都要順利。

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