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打破「無芯」窘境！首台10納米光刻機問世，助力國產芯走向世界

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隨著我國對科技的重視以及研究，我們有了越來越多屬於我們自己的高科技產品，紫外超分辨光刻機就是其中之一。

紫光超分辨光刻機是全球首台利用紫外線光源實現22納米工藝製程的光刻機，結合多重曝光技術後，可用於製造10納米級別的晶片。

頭髮絲兒的直徑約80微米，頭髮直徑的3600之一就是22納米，換句話說，該光刻機能夠在頭髮絲兒上進行各種複雜的工藝設計。

而365納米的光源，打破了傳統的衍射極限，相當於你用一把粗10厘米的美工刀，卻刻出一條1納米的線。

​目前，全球僅有四家光刻機設備廠商能夠設計出高端的光刻機，分別是荷蘭的ASML、日本的Nikon和Canon以及中國的上海微電子裝備公司。

而紫外超分辨光刻機是由中國科學院光電技術研究所設計的，雖然與占據全球百分之九十市場份額的荷蘭ASML相比還有很大的差距，但是他們仍在努力。

​當然，在研發過程中也不是一帆風順的。

在2002年，我國受到了國外的封鎖，貿易壁壘、技術封鎖、價格壟斷等問題擺在上海微電子公司的面前，所以當時只能設計出90納米工藝製品的晶片。

這款晶片在功耗控制以及性能上與其他國家的晶片相比都有一定的差距，導致最後推出商用都沒有做到。

值得一提的是，隨著國家對晶片的重視，我們在自主製造光刻機這方面已經越走越遠。

​眾所周知，晶片製造的核心裝備時光刻機，沒有光刻機就不能製造出發展信貸信息技術和人工智慧的晶片。

所以國產光刻機的出現，會給我們帶來很多好處。

一是每年為我國節省至少三千億美元外匯。

二是它能保障我國的國防安全，更能讓我國的科技水平領先於世界。

中國的不斷強大，惹得了其他國家的眼紅，對我們在經濟、科技等領域進行封鎖。

我們在晶片領域一直受制於人，在光刻機領域更是如此，有一天我國的紫外超分辨光刻機也能達到7納米，甚至更小納米的工藝製程，讓我們拭目以待！

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