我國的光刻機開發得怎麼樣了？

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人工智慧提取前100核心關鍵詞：

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人工智慧提取核心摘要：

1、在這一新的技術領域，我國的材料、軟體和光學零件不再受到人類的生產，從而使我國的光刻機技術向前邁進了一步總之，在光刻機製造領域，雖然我國與asml等頂尖企業還存在較大差距，但我們也看到，目前我國光刻機的研發進展非常明顯，未來我國光刻機與國際的差距將逐漸縮小，甚至達到世界先進水平中國需要你們，這中國當前的局勢下，對華為的封鎖，對中國企業的貿易限制，無不代表著美國想遏制我們的崛起，在5G時代來臨之際，可以說晶片是即將這個時代的核心技術，我們要加油了，為中華民族的崛起奮鬥努力啊
2、2001年的時候ASML就獲得了157nm關鍵的光學技術，2010年的時候首次發售概念性EUV光刻系統，而目前上海微電子裝備已經是國內能夠量產半導體光刻機的最高水平
3、2001年的時候ASML就獲得了157nm關鍵的光學技術，2010年的時候首次發售概念性EUV光刻系統，而目前上海微電子裝備已經是國內能夠量產半導體光刻機的最高水平

4、目前國內唯一一家光刻機廠商-上海微電子裝備17年年底去上海微電子，公司正在進行90nm光刻機驗收工作目前世界上最先進的光刻機是asml的euv光刻機，可用於5nm以下製程國產光刻機和最先進的光刻機，技術差距至少十幾年90納米製程的沒問題，古董是古董了點，好歹將就著能用（當然，就不用跟世界先進消費電子競爭了）28納米製程的，已經有樣機，如果憋的緊，趕趕工，基本可以用了（2021）

5、上海微電子自主生產的SSA600/20光刻機，可以用來加工90nm製程工藝的晶片，如果用來生產軍用和航天晶片，那一點問題也沒有，但是如果用來製造消費類電子晶片，那只能死路一條，我國能夠實現的大規模商業化精度僅僅只達到了90nm，與國外頂級商業化生產差距至少達到了10年而中國目前最新的65nm光刻機還在設備驗證階段，但這也為中國自主研發28nm雙工件乾颱式及浸沒式光刻機奠定了基礎

6、上海微電子自主生產的SSA600/20光刻機，可以用來加工90nm製程工藝的晶片，如果用來生產軍用和航天晶片，那一點問題也沒有，但是如果用來製造消費類電子晶片，那只能死路一條，我國能夠實現的大規模商業化精度僅僅只達到了90nm，與國外頂級商業化生產差距至少達到了10年而中國目前最新的65nm光刻機還在設備驗證階段，但這也為中國自主研發28nm雙工件乾颱式及浸沒式光刻機奠定了基礎
7、2002年，光刻機被列入國家863重大科技攻關計劃，由科技部和上海市共同推動成立上海微電子裝備有限公司（SEMM）到現在2020年，真正意義上的從無到有，中國的光刻機開發公司只有一家 就是SEMM光刻機是晶片製造過程中非常重要的一步，光刻機就直接決定這晶片的質量，而我國作為幾個最大的晶片消費國之一，每年進口的晶片都達到幾萬億美元目前我國光刻機最高技術也就上海微電子所生產的90nm光刻機
8、於是有人問，目前中國刻蝕機能夠生產出5nm的來了，那麼國產光刻機的技術究竟在什麼水平，和ASML相比，還差多少，能不能短時間內追上來，從而不再依賴ASML

9、太TM燒錢了 沒看見人家asml都差點掛掉要扶持一下其實也簡單 反正美帝不要臉了，政府採購就提為了國家安全所購電腦終端必須採用國產光刻機製造CPU就打個字 換國產CPU好多遊戲玩不了 沒準效率還提高貌似只有上微在做去年下半年和在愛爾蘭一家semiconductor manufacturing的公司的創始人兼工程師聊過，將來的很長一段時間內，ASML會繼續在光刻機領域處於壟斷地位，laser他們自己造不出，用的還是美帝的，研發過程很多小公司因為經費倒在路上，一批又一批的工程師加入研發團隊，才造就了今天的asml的光刻機，這個工程師花了20年時間研究怎麼更好的使用光刻機，至今還在學習，科研需要經費人才政策各方面的支持，缺一不可，希望國產不斷縮小和歐洲機子的差距

10、現在我國可以生產光刻機是上海微電子裝備集團（SMEE）最先進的SSX600系列，上圖為SSA600/20，可滿足IC前道製造90nm關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求該光刻機採用的曝光光源是氟化氬（ArF excimer laser）但同樣是使用 193nm ArF 準分子雷射和液體浸沒技術，光學光刻已經擴展到低於 50nm 的特徵尺寸
11、美國在5月16日禁止華為使用美國技術來製造晶片，那麼ASML公司的光刻機就不可以用於華為的晶片生產，但是目前有120天的過渡期，華為可以通過過渡期來快速囤貨
12、中國光刻機技術和ASML的差距
13、我們不能打包票說已經能夠完全打破壟斷，但是中國不會放棄自主研發這條道路，為此，中國成立的國家集成電路產業基金為了扶持國產晶片、光刻機等半導體行業發展，已經投入高達3387億的研究資金
13、而這台極紫外光刻機是中國唯一一台極紫外光刻機，也是製造高端晶片必不可少的設備，目前只有ASML能夠生產

14、SMEE（上海微電子）計劃2021年交付首台國產的28nm的immersion光刻機，和世界上最先進的ASML公司仍然具有20年左右的差距（20年後可能和ASML水平持平）
15、一直以來我國的半導體行業一直被掌握在別人的手裡，目前全球能夠掌握光刻機技術的國家只有寥寥幾個，由於國內光刻機技術的局限性，我國的光刻機一直依賴進口荷蘭ASML公司
16、還有華中科技大學的甘棕松教授已經用跟ASML公司完全不同的技術路線，首次在世界範圍內實現了單線9納米線寬的超分辨光刻，而且成本只是動輒1億美元的主流光刻機的幾分之一，國產9納米光刻機即將出現