下一代晶片結構GAAFET,晶片微縮的盡頭在哪裡
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MOSFET,金屬氧化物半導體場效應電晶體,誕生於1959年。
MOSFET使得晶片從10U一直微縮至22NM。
在22NM時MOSFET已經不再適用。
其後出現了FD-SOI和FinFET兩種新的晶片結構。
FD-SOI,全耗盡SOI。
FinFET,鰭式場效應電晶體。
在英特爾、IBM等巨頭的主導下,現在大多數晶片以FinFET結構為主。
FinFET使得晶片從22NM微縮到7NM。
從1959年至今,從MOSFET到FinFET,晶片實現了100多倍的微縮。
然而FinFET發展到7NM,晶片製程的微縮再次遭遇了重大瓶頸。
許多專家認為,晶片已經無法再進行微縮,摩爾定律即將破產,晶片要繼續進行微縮必須要由矽基轉向非矽基。
但是,2017年,GAAFET出現了。
GAAFET, Gate-All-Around閘極環繞場效應電晶體。
在2017年IBM利用GAAFET實現了5NM晶片製程。
在今年5月份,在美國舉行的SFF 2018 USA之上,三星宣布將利用GAAFET結構,實現5nm、4nm、3nm工藝。
GAAFET的出現,讓晶片再次出現微縮的空間,使得晶片更小的NM製程成為可能。
晶片微縮的盡頭在哪裡呢,目前誰也沒有定論!
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