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三星、台積電7納米對決　恐撼動晶圓代工版圖

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三星電子(Samsung Electronics)與台積電在新一代晶圓代工戰局進入白熱化，雙方紛將10納米製程量產目標訂在2016年底，近期三星更進一步擴大投資，向荷蘭微影設備大廠ASML訂購極紫外光微影製程(EUV)掃描機，提前搶灘7納米製程，最快2017年底可用於量產晶圓，業界紛關注台積電後續可能採取的反擊策略，恐將牽動雙方未來在晶圓代工版圖變化。

業界認為EUV設備是突破微影製程界限的重要王牌，目前還沒有半導體業者真正將EUV設備導入量產，因為龐大的設備投資讓晶圓代工業者退卻，亦無法得知使用EUV設備是否真能達到預期效果。

台積電與三星均認為，介於14納米與7納米之間的10納米製程技術難以長久維持，由於10納米性能只比14納米提高20%，但7納米性能卻比14納米提高35%，且節省耗電65%，使得台積電與三星均積極投入7納米製程研發。

業界預估三星與台積電用於研發7納米的設備投資，恐將超過2.5億美元，相較於目前普遍使用的28納米製程，7納米成本至少高出9倍，至於10納米投資成本雖較低，但相較於14納米性能改善幅度並不顯著。

儘管英特爾(Intel)最先投入14納米製程發展，然面對7納米激烈戰局選擇放慢步調，並將導入10納米目標訂在2018年，加上近期英特爾全面改造組織、調整事業領域，亦影響英特爾在先進微影製程轉換採取較保守態度。

三星與台積電向來將蘋果(Apple)移動應用處理器(AP)代工訂單視為兵家必爭，2015年三星以14納米製程搶到較多的蘋果訂單，但台積電因10納米製程趨於穩定，目前在爭取新款iPhone代工訂單暫居優勢地位，加上台積電專注於晶圓代工，具備較高的價格競爭力，但三星在先進位程積極布局及急起直追態勢仍不容忽視，後續台積電反擊策略備受業界矚目。

來源：Digitimes

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