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晶片行業龍虎鬥，三星也成功攻克7納米製程，即將量產！

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在晶片代工市場中，台積電與三星的競爭可謂是龍虎鬥。

由於在7納米製程節點上，高通預計會選擇台積電，三星明顯感受到壓力，已經著手從工藝技術上進行彎道超車。

如今，三星終於公布了他的 7 納米 LPP 製程已經完成了新斯科技（Synopsys）的物理認證，意味著7納米EUV製程將可以進行全球量產了。

目前，英特爾的10納米製程還沒搞定，距離7納米製程就更遙遠了。

台積電的7納米製程量產比較順利，會有蘋果、海思、高通、NVIDIA、AMD 等客戶陸續流片、量產。

不過，台積電並不追求EUV極紫外光微影技術，而是堅持延續193nm液浸式光刻技術。

台積電計劃到5納米結點才真正過渡到EUV技術，所以起碼還有到2019年年底才可能部署。

前段時間，台積電透露聯發科正與其密切合作7納米的12核處理器，表示7納米正在量產認證，接下來兩個季度進行試產，2018年便可實現量產。

格羅方德方面也走台積電相似的路線，預計2018年量產的7納米DUV製程還是傳統的深紫外光刻技術。

對此，號稱頻率可達5GHz的AMD 7納米Zen 2處理器就會使用格羅方德的 7 納米製程技術，這需要等到2020年了。

目前在 EUV 光刻技術競爭激烈下，各家大廠搶 EUV 光刻機也成為重要經營項目之一。

根據之前的消息，ASML 的 EUV 光刻機中，台積電訂購了大約 10 台，三星訂購了大約 6 台，英特爾訂購了3台。

值得高興的是，中芯國際也訂購了1台EUV光刻機，目前已經成功攻克14納米製程，未來將用於 7 納米製程技術研究上。

隨著製程技術的演進，遇到的挑戰與困難只會多不會少，並且製程節點已進入到10納米以下，快要接觸到物理極限，所以除了線寬微縮外，改變元件結構或是使用新的材料等選項，已是一條不可不走的路。

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