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ASML最先進EUV出貨，台積電5納米有譜

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全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布，在台積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下，最先進的極紫外光(EUV)已連續四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三台最新的EUV系統出貨。

EUV堪稱半導體設備發展以來最昂貴的設備，一台售價高達9,000 萬歐元(約新台幣36億元)，這項設備也是半導體產業向更先進位程發展最關鍵設備，因此發展進度，一直各界關注焦點。

台積電共同執行長暨劉德音表示，台積電本季將會再增購一台EUV設備，不過台積電將會於5納米">納米製程才會導入生產製程，顯示EUV的輸出率，目前仍處於試驗階段。

不過，ASML總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink)昨天在公布第1季財報後，也針對EUV進展，公布重大突破。

他強調，ASML的目標是在今年持續強化EUV系統的生產力和妥善率，並計畫在今將機台生產力提升到每天曝光1,500片晶圓。

他說，今年首季，ASML的EUV系統即展現每天曝光350片晶圓的實力。

在妥善率方面，三個客戶端的EUV系統都展現連續四周平均妥善率達80%以上的成果。

至於首季已出貨一台最新EUV微影系統NXE:3350B，計劃第2季出貨兩台EUV系統。

ASML首季也推出深紫外光(DUV)最新型浸潤式機台NXT:1980，並出貨6台，且快速將生產力拉升到每天4000片晶圓的水準。

這套系統將應用在即將邁入試產的10納米製程。

ASML也於本季推出最新一代的整合式量測系統YieldStar 350E，提供晶圓更準確的量測結果來做後續分析。

ASML昨天公布首季營收13.3億歐元，毛利率42.6%，雙雙超標，本季預期在客戶導入新的浸潤式機台為10納米量產做准，且擴增28納米製程產能，樂觀預期會有強勁成長。

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