中芯國際先進位程的進擊之路
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8月8日,中芯國際發布了其2019年第二季度的財務報告。
中芯國際在其電話會議中表示,得益於智慧型手機和物聯網生態的帶動,中芯國際本季度在通訊市場走勢良好,營收占比為48.9%。
另外,據其財報顯示,其FinFET工藝研發持續加速,14nm已進入客戶風險量產,預期在今年底貢獻有意義的營收。
第二代FinFET
N+1技術平台已開始進入客戶導入。
在9日的電話會議上,中芯國際CEO趙海軍博士表示:「目前已經有十幾家企業採用中芯國際的14nm工藝,年底將有小批量出貨。
」
這是繼中芯國際在第一季度後,再傳出關於公司在14nm工藝上的好消息。
而伴隨著這條消息的發布,也不難發現,在不經意間,中芯國際在先進工藝上已然取得了驚人的成長。
中芯國際的發展之路
雖然現在已有7nm的產品被應用,與5nm及其以下工藝相關的計劃消息也接連不斷。
但據公開消息顯示,目前主流的晶片製程仍是90nm、65nm、40nm、28nm、16nm,由於28nm工藝成熟和高性價比特性,成為目前生產最多的晶片,銷售占比近30%。
而從中芯國際去年第四季度的財報中看,按工藝製程上來看,中芯國際在2018年的主要收入來源仍然來自40/45nm(2013年量產40nm)和55/65nm,分別占四季度總營收的
20.3%和23.0%,28nm只占其四季度收入的5.4%。
但根據西南電子的調查顯示,當先進工藝進入到28nm階段,僅有5家純晶圓代工企業和5家IDM企業進行了成功量產,中芯國際是中國大陸最早可以量產28納米技術的晶圓代工廠(中芯國際28nm工藝於2015年正式成功量產)。
但根據雷鋒網的介紹,28nm工藝有兩個方向,一個是高介電常數金屬閘極(HKMG),一個是低功耗型的傳統氮氧化矽(SiON)。
當時,中芯國際的28nm屬於後者,相比前者技術難度更低。
而後,在接下來的幾年中,中芯國際一直沒有放棄28nm HKC+工藝。
直到2018年下半年,中芯國際終於宣布已經量產28nm
HKC+工藝,而華虹方面則計劃到今年年底才能量產28nm HKC+工藝。
由於技術上的提升,以及市場對28nm產品的需求,使得中芯國際的28nm產品在過去的半年中有所增長。
據其最新財報顯示,在中芯國際2019年第二季度中,其28nm占其收入的8.6%。
由此看來,中芯國際的28nm工藝已經漸入佳境。
但是,在9號的財報會議上,中芯國際則表示,公司不打算在短期內擴大28納米的產量。
在2019年,中芯國際同樣也將致力28nm
HKC+工藝的多樣化發展。
此時,中芯國際在剛剛邁入28nm的時代,國際廠商已經將先進工藝延伸到了10nm甚至是7nm。
這也就意味著28nm的價格已經被「壓了下來」。
這對中芯國際來說,是個不小的壓力。
在這種壓力下,中芯國際早早開始布局28nm以下工藝。
2017年,在梁孟松剛加入中芯國際之時,就有台媒報導稱,中芯國際已經在14nm工藝上開始布局。
在接下來不到3季的時間裡,中芯國際14nm的試產良率,已快速從3%提升到95%。
當時間進入到2019年後,中芯國際的14nm產品有了後續的好消息。
據新媒科技評論先前的報導稱,中芯國際於今年上半年將會大規模量產14nm工藝,首個訂單來自手機領域。
除此之外,今年5月,中芯國際聯席執行長梁孟松在公司第一季度財報中透露,中芯國際FinFET研發進展順利,12nm工藝開發進入客戶導入階段,上海中芯南方FinFET工廠也已順利建造完成,開始進入產能布建。
其14nm工藝雖已經有客戶導入,但目前為止,並沒有對公司的營收產生影響。
對此,公司也在其最新財報中表示,其14nm相關產品預期在今年底貢獻有意義的營收。
同時,在第二季度財報中,中芯國際也公布了其14nm的最新進展——中芯國際聯席CEO梁孟松曾表示,「中芯國際第一代FinFET 14nm工藝已經進入客戶驗證階段,產品可靠度與良率進一步提升」。
(2019年第二季度各類晶圓營收占比,來源:中芯國際官網)
而在14nm以下工藝上,中芯國際也採取了繼續向下發展的計劃。
就目前市場上的消息而言,中芯國際早在去年就在7nm工藝上做出了相應的布局。
據公開資料顯示,中芯國際在去年向荷蘭ASML訂購了一台EUV極紫外光刻機,單價高達1.2億美元,用於未來打造7nm工藝。
從上述種種消息來看,從2000年中芯國際成立到今天,在短短的將近20年中,中芯國際從一窮二白髮展到如今14nm工藝並意圖7nm工藝,可以說是取得了驚人的成績。
(與聯電相比,在三星還未重視晶圓代工之前,當初的晶圓代工二哥,曾在2009年就量產了40nm工藝,但如今它卻止步於12nm。
)
中芯與國際巨頭之間的距離
據通信信息報消息顯示,截至 2017 年第二季度末,台積電 28 納米以下的中高端製程晶片已經占總收入的 54%,40 納米以下占 67%。
而中芯國際 2017 年收入貢獻度最高的還是來自於 90 納米及以下的製程技術,占比達到
50.7%。
2017 年中芯 14 納米技術的研發也才到關鍵的突破期,尚未完成開發。
由此可見,當中芯國際還在 28 納米掙扎時,台積電的技術已經至少遙遙領先三代。
當中芯國際在28nm上有所進展,它與國際巨頭之間的還有多大的差距?據西南電子的報告顯示,中芯雖然還難以撼動台積電28nm市場,但有望超越聯電和格羅方德。
台積電2016年28nm占據60%以上的市場,且收入占比維持25%左右,短時間內難以撼動。
聯電28nm技術落後台積電2年多,16年市場占比8%左右。
格羅方德於2012年底實現28nm工藝的量產,多年處於虧損狀態且中國市場客戶不足。
中芯國際28nm目前雖然市場占比較低,但是不斷擴大研發投入和引進人才,競爭力日漸增強,有望超越聯電和格羅方德。
(來源:西南證券)
在過去的日子裡,半導體先進工藝一直遵循著摩爾定律「中規中矩」地發展。
2003年,半導體製程從微米時代跨入了納米時代。
在進入納米時代的十幾年後,由於技術和成本上壓力,半導體先進工藝也遇到了瓶頸。
這種壓力,在為中芯國際帶來了挑戰以外,更為它帶來了機遇。
目前,大部分代工廠的工藝都停留在了14nm上。
而中芯國際也在不斷的追趕中,逐漸步入了14nm的軌道。
根據西南證券消息顯示,2018年1月30日,中芯國際公布公司旗下中芯南方擬增資擴股,使其註冊資本由2.10億美元增加32.9億美元至35億美元。
據悉,中芯南方是配合中芯國際14納米及以下先進位程研發和量產計劃而建設的具備先進位程產能的12英寸晶圓廠。
中芯南方預期在2018年度完成廠房建設和無塵室裝修,預計2019年會有設備資本支出。
先階段擁有的14nm研發設施已經具備3500片的月產能,第二階段會達到6000片/月,第三階段會達到9000片/月。
中芯南方目標將在2019年上半年投產,產品將有更高效能表現,成本較低,容易轉移技術及融入設備中使用。
根據報導稱,SMIC剛剛開始製造14nm晶片,而三星和台積電多年來一直在製造此類晶片。
分析公司China Renaissance估計,中芯國際在14納米和16納米晶片方面仍落後台積電約17個季度。
以上是就中芯國際目前已有的技術,看它與國際巨頭之間的差距。
那麼,從未來的布局中看,中芯國際與國際廠商之間又有多遠的距離?
眾所周知,就目前的技術而言,先進工藝越是往前走,競爭者就越來越少。
另外,市場也有一種聲音——10nm工藝是一個門檻,也是邁向7nm工藝的關鍵。
以此看來,10nm的成與敗,關係到能否順利進到更先進的工藝上來。
在這種壓力之下,聯電、格芯相繼放棄了10nm市場,而後,只有台積電、英特爾和三星還在10nm以下的先進位程上較勁。
而根據中芯國際的發展計劃來看,未來在7nm市場的競爭者還將多加個中芯國際。
對於10nm及其以下的工藝來講,目前,台積電、三星和英特爾都有了相關的布局。
據公開消息顯示,台積電於2016年首發10nm晶片,在接下來的3年中,10nm產品為台積電創造了一定的營收。
而後,台積電於2018年量產了7nm工藝。
據台積電最新財報顯示,其7納米製程出貨占台積電2019年第二季晶圓銷售金額的21%。
在TSMC 2019 Technology Symposium中,台積電還表示將於今年推出加強版的7nm工藝即N7+,明年量產6nm,在5納米方面,台積電表示目前已經導入試產,計劃於明年第二季開始量產。
另外,台積電還計劃其3nm可在2021年試產、2022年量產。
除此之外,台積電還宣布公司正式開啟2納米工藝的研發工作,並在位於台灣新竹的南方科技園建立2納米工廠。
台積電預計,2納米工藝研發需時4年,最快也得要到2024年才能進入投產。
這款時間裡5納米工藝乃至3納米工藝均會成為過渡產品,以供客戶生產晶片的需要。
三星方面,也在2017年表示,該公司有超過7萬個晶圓加工過程都採用了第一代10nm
FinFET工藝。
2018年初,三星開始量產第二代10nm工藝,稱為10LPP(低功率+)。
據騰訊科技報導,在2018年晚些時候,三星推出了第三代10nm工藝,稱為10LPU(低功耗終極),提供了另一項性能提升。
而根據其未來的製程工藝路線圖,三星則計劃今年推出7nm EUV工藝,明年有5/4nm EUV工藝,2020年則會推出3nm
EUV工藝,同時電晶體類型也會從FinFET轉向GAA結構。
但就目前日韓貿易局勢而言,三星7nm所需要的關鍵材料被日本管制,可能會導致其7nm工藝延遲推出。
而對於在14nm上進行了無數次優化的英特爾,也在今年推出了其10nm產品。
據AI科技報消息稱,英特爾10nm工藝,將於今年年底上市銷售,只用於少數高端產品,對標同級別對手的7nm工藝,而伺服器端將於明年上半年銷售。
總結來看,台積電2018年已經量產7nm工藝,2020年則會轉向5nm節點。
三星7nm EUV工藝預計2020年1月份量產,5nm 預計2021年量產。
英特爾的10nm(對標台積電的7nm)也已於前不久推出了相關產品,而聯電與格芯相繼宣布暫時擱置7nm製程研發,目前最先進工藝均為14nm。
以此看來,中芯國際正在縮小與國際巨頭之間的距離。
但根據,中芯國際在先進工藝上的研發投入看來,2018年全年,中芯國際的研發投入僅超過6億美元。
同時,通過本次電話會議,我們也了解到在未來研發方面,中芯國際在2019年計劃用於晶圓廠運作和資本開支約為21億美元,主要用於擁有多數股權的上海300mm晶圓廠的機器、設備,以及用於FinFET研發線。
但這個數字與國際廠商相比,仍還有較大的差距——在過去5年中,台積電在研發上投入了500億美元;三星也於2019年4宣布,將在2030年投資1150億美元用於系統半導體領域的研發和生產技術。
其中,60萬億韓元(521億美元)將投資於用於製造邏輯晶片的生產設施和基礎設施。
這樣看來,中芯國際國際要想縮短與國際之間的距離,還有一段很漫長的路要走。
中芯國際引入的關鍵人才
除了技術方面以外,中芯國際要想與國際先進工藝接軌,還需要人才的加持。
而中芯國際在2017年布局14nm工藝之時,就開始注重關鍵人才的引進。
在管理方面,中芯國際於2017年10月宣布採用Co-CEO模式,任命趙海軍和梁孟松擔任中芯國際CEO。
據悉,梁孟松在1992就加入了台積電,而且那一年憑藉自主研發的技術擊敗了IBM,從此名揚全球。
2008年梁孟松又從台積電離職加入三星,在這個階段,三星的製程演進路線在他的領導下由32納米/28納米Planner技術直接跳階到14納米FinFET技術,並在2014年底開始量產。
2017年梁孟松來到中芯國際,在中芯國際上任4個月以來,他加強了研發隊伍的建設,強化了責任制,提升效率及更具應變能力。
同時調整更新了14納米FinFET 規劃,將3D
FinFET工藝鎖定在高性能運算、低功耗晶片應用,並且已在設備性能上看到較大的進步。
同期,中芯國際也任命周梅生出任CTO一職。
據西南電子的調查稱,周梅生過去在台積電任職時是梁孟松的手下大將,未來在與梁孟松的合作中將全力幫助中芯國際跳級到14納米FinFET工藝。
除此之外,中芯國際的招攬人才之旅並沒有結束。
在其發布最新財報的前一天,中芯國際董事會也宣布了一則重要消息。
該消息顯示,8月7日起,楊光磊博士獲任該公司第三類獨立非執行董事及薪酬委員會成員,任期至2020年股東周年大會為止。
據悉,楊光磊博士自1998年4月至2018年6月,在於台灣積體電路製造股份有限公司(註:TSMC台積電)位於台灣及美國的公司先後擔任包括研發處長在內的多個不同職位,隨後於2018年6月退休。
正是這些人才的導入,讓中芯國際在過去的幾年中得到了快速的成長。
照此趨勢發展,或許中芯國際也能在先進工藝上爭得自己的一片天地。
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