國內最先進的刻蝕機生產商,已量產5nm設備,台積電都離不開它!

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眾所周知,在晶片製造中,光刻機,刻蝕機都是必不可少的設備之一。

尤其光刻機,國內尚無先進技術,生產不了高端的,據網上資料顯示,目前只能生產90nm工藝的光刻機,而國際上的晶片已經發展到7nm工藝了,可見差距有多大,起碼10來年。

所以去年中芯國際說從ASML採購了一台最先進的光刻機時,網友們都覺得可能國產晶片要崛起了,事實上也是如此,今年中芯國際會量產14/12nm晶片了。

但其實國內在刻蝕機方面,卻一直屬於世界領先水平,並不比國際水平台。

近日,因為科創板的原因,中微半導體設備(上海)股份有限公司正式被很多網友了解了,因為這家企業生產晶片的關鍵設備--刻蝕機。

這家公司自2004年成立,和華為海思半導體是一年成立的,在2018年已經量產了5nm的刻蝕機,並且已交給台積電驗證,在台積電的計劃中,將在2020年用於5nm晶片的量產。

而在此之前,中微半導體的7nm刻蝕機已用於台積電的晶片生產中,像麒麟980、高通855、蘋果A12晶片由於是台積電代工的,所以肯定離不開中微半導體提供給台積電的7nm刻蝕機。

那麼光刻機和刻蝕機有什麼區別呢? 簡單的來講,光刻機是把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的矽片上面。

然後再利用刻蝕機再把剛才畫了電路圖的矽片上的多餘電路圖腐蝕掉,這樣就做成了形成了晶片。

至於為何國內刻蝕機技術這麼先進,而光刻機技術這麼落後呢?這個我想沒多少人能夠解釋清楚,反正現實就是如此。

不過雖然這家公司技術這麼強,和另外四家來自美日的泛林、應用材料、東京電子、日立並稱為全球五大刻蝕設備巨頭,但份額卻並不高,份額不到5%,另外四家廠商占了90%以上份額。

但不管怎麼樣,至少在這一方面我們不怕別人卡脖子,就是好事情,份額再少,只要國產晶片能夠崛起,國內晶片企業多採購,就一定能夠發展起來,你覺得呢?


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