邁向晶片自主的一小步——中微攻克5納米刻蝕機
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據媒體報導，中微半導體設備（上海）有限公司已經攻克5納米刻蝕機，預計在2020年達到量產。
當下由台積電製備的晶片屬於7納米工藝，蘋果的A晶片就是由其代工生產的，而中維的5納米刻蝕機是製備晶片的主要設備，那麼是不是中國就獲得了5納米光刻機了呢，答案是還差一步！
中微生產的是：離子體干法刻蝕機簡稱ICP
「刻蝕機」是襯底上光刻膠曝光顯影之後在襯底上刻蝕圖形的。
它的作用呢，好像你想刻個印章，需要用「刀」把木頭的表面一部分給挖下去，留下你的名字凸出來。
ICP就是這把刀，去刻矽片或者藍寶石之類的材料。
比如我想刻個O字，就需要把粉色陰影部分刻掉，那麼就需要有個O字型的掩膜，保護矽片O這個部分不被刻掉，如圖。
可以看出來，精細的圖形完全依賴精細的掩膜，掩膜是用光刻機製作的，這也就是大家爭論光刻和刻蝕這的兩個技術概念。
光刻技術做到5納米，同樣也需要刻蝕技術的配套。
不過光刻機技術更高端難搞，所以國內先攻破了刻蝕機難關，剩下就是光刻機的5納米突破。
因此說光刻機和刻蝕機兩者缺一不可。
先用光刻機在半導體晶元上畫圖，再用刻蝕機將畫好的電路圖腐蝕出來。
要做出5nm的晶片，我們還需要能畫出5nm細的電路圖的光刻機.
一塊CPU製造出來，需要N多設備和材料。
蝕刻機的應用只不過是其中流程之一。
前十大半導體設備生產商中，有美國企業 4 家，日本企業 5 家，荷蘭企業1 家 。
美日的強大真不是隨便說說。
光刻是一種圖形轉移技術，國內外教材，從未用納米量級來衡量刻蝕機性能的，這新聞真的有誇大的嫌疑，而能做10nm工藝及以下光刻機的公司目前全世界只有一家荷蘭的ASML，一台設備幾億人民幣吧，並且對中國大陸禁運。
中國在設備上的研究還有一段艱辛之路，甚至有人說可能要經歷20年的追趕。
據說馬雲已經成立晶片研發的公司，希望他能加快中國晶片的步伐，早日夢想成真。
中國要在晶片上取得完全自主與製造，還是有一段路要走，砥礪前行。
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