Intel在10nm找到了摩爾定律的出路

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近年來，大部分人對摩爾定律的前景看的似乎沒那麼樂觀，但是晶片巨頭Intel似乎找到了出路。

按他們所說，最起碼在接下來的幾年，摩爾定律的前途是一片光明的。

2017年，Intel會發布該公司的首顆10nm晶片。

Intel指出，在這個製程下製造的電晶體比之前的還便宜，明顯符合運轉了數十年的摩爾定律的宗旨。

Intel還表示，在未來的幾年內，他們將大大優化電晶體的設計，並將其調整，以滿足即將開啟的為ARM晶片代工的業務。

Intel的高級fellow Mark Bohr表示，10nm的電晶體比現在的14nm會密集很多，對比其他競爭對手的10nm也更有優勢。

Intel之前已經發布了一些關於新時代工藝的細節圖片。

可以得知，控制電晶體開關的柵極長度和柵極之間的距離（gate pitch）也會變得更小。

Gate pinch可以54nm到70nm。

而在電晶體連接起來執行標準邏輯功能的邏輯單元上面，其尺寸較之14nm幾乎小了46%。

這種縮小較之以往更令人振奮，Bohr表示。

同時他的出現幫助消除了一個障礙，那就是逐漸緩慢的新世代晶片製造技術的介紹節奏。

這個節點和我們將要做的晶片的重要意義就是打破了人們關於摩爾定律將會非常緩慢，甚至會失效的觀點。

Bohr補充說。

儘管在wafer上使用10nm工藝製造晶片的成本會比14nm高，但是Intel強調，均攤到每個電晶體上的成本是降低的。

且10nm會帶來開關速度和能源損耗的提升。

但和過往很多年看到的現狀一樣，時鐘速度並不會很輕易的提升。

Bohr指出，在這個新世代，除了降低電晶體的製造成本以外，功耗降低和能源效率是關注的另一個重點。

緊密度和效率的提高，會讓為伺服器晶片添加更多的核與給GPU添加更多的執行單元成為潮流。

在過去，Intel每隔幾年就升級一次他的電晶體，並伴隨介紹其新的製造技術。

但在14nm的時候，Intel推出了一個叫做deminode的東西，那就是在10nm之前，推出全套提升14nm電晶體的方案。

到了10nm，Intel也會在7nm面世之前提供兩個這樣的deminode（10nm+和10nm++），這從某種角度看是為了應對往下一代工藝推進的困難所想出來的一種權宜之計。

Bohr指出，如果你發現從10nm往7nm推進的過程中困難重重，為了讓大家有更好的產品可以用，那麼你就可以將現有的工藝製程進行提高，保證大家的產品每年都有提高。

三星和TSMC也都在推進10nm工藝。

三星在2016年十月份還宣布將於2017年早些時候推行新工藝的大規模量產。

格羅方德則選擇跳過10nm，聚焦將於2018年到來的7nm工藝。

「大家都在推動電晶體的小型化發展」，VLSI Research的的CEO Dan Hutcheson表示。

每個公司都在推進先進工藝，但個人的步伐非常不一致。

如果我們細看，會發現Intel在10nm的時候應該還是領先於其他廠商的。

初次之外，Hutcheson還指出，不同於其他晶片製造商，Intel一直將其製造工藝的推進控制在一個合適的節奏和一致性。

這就讓他們在提供代工服務的時候有明顯的優勢。

為其他廠商製造晶片是Intel的一個新嘗試，尤其是製造ARM晶片。

Hutcheson認為。

如果你沒有ARM，是很難開展代工業務，因為ARM是標準的架構。

Intel指出，其推出的第一個10nm晶片會是自身的晶片，接下來就是其他廠商的晶片，但這個周期會推到2018年。

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