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美國又失算了，上海微電子發布光刻機，技術僅次於荷蘭ASML

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自打華為走進世界各國的視野之後，美國就不停的找華為麻煩，然而讓他沒想到的是，在限制對華為出售美國晶片之後，華為成功研發出了自己的晶片。

然而他還沒從這件事中得到教訓，5月15日，他又更新了對華為的制裁，連製造晶片的技術都不讓使用了。

這次我們恐怕又要讓他失望了。

01 我國晶片製作工藝與美國差距很大

雖然現在華為看起來是有些狼狽，在美國發布新制裁之後立馬聯繫台積電下了大量的訂單，好囤積充足的晶片讓自己有更多的時間去研究成產製造晶片的技術。

我國現在雖然能設計出很棒的晶片，但是卻還沒有足夠的實力去生產，這方面我們和美國的差距可是很大的，在台積電能過做出並量產5nm製程晶片的時候，我們的國產光刻機還停留在90nm的地方。

美國也正是看到了這一點，才對華為進行了新一輪的制裁。

台積電作為這一方面的巨頭，已經可以量產5nm的晶片，而華為的新款手機用的就是5nm製程的晶片。

而中國現在最強的晶片代工商中芯國際目前還未能觸及到7nm的晶片製作，只能實現14nm晶片的量產，完全達不到現在華為對晶片的要求。

就在這種絕望的時刻，上海微電子公司宣布了一個消息。

02 上海微電子傳來好消息

上海微電子公司發來消息表示將會在2021年到2022年之內生產出國內第一台28nm工藝的國產的沉浸式光刻機。

雖然和5nm光刻機有著不小的差距，但是你要知道我國現在的光刻機還只是90nm。

這台光刻機問世之後，他將成為我國最先進的國產光刻機設備，並且上海微電子公司也會超越多家廠商，成為僅次於荷蘭ASML的全球第二的光刻機廠商。

雖然這台光刻機是28nm技術的，但是在不代表他只能製作28nm製程的晶片。

根據現在的情報了解，這台光刻機在單次曝光的情況下可以直接實現晶片的28nm製程。

但在多次曝光的情況下是可以做出11nm製程晶片，並且如果套刻精度為1.7nm時，在多重曝光之下也可以做出7nm製程的晶片。

除此之外，我國還在研發更高端的EUV光刻機，他的核心部分將由長春機電研發。

如果能夠成功，我國的晶片製造技術將會更強。

結語

雖然現在我國的晶片製作技術還有很多不足，但是我們中華民族正是能在困境出創造出奇蹟的民族，美國這樣的限制我們非但不會打垮我們，還會讓我們在壓力之下取得更大的進步。

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