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國產光刻機的希望：獨占國內80%市場，未來或將取代荷蘭ASML

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近段時間國際科技圈風雲變幻，美國科技領域與我國華為之間的碰撞愈演愈烈，而在這個過程中大家逐漸明白晶片、半導體以及相關技術的重要性了。

在美國成功說動台積電赴美建廠了，台積電便啟動了120億美元赴美建廠計劃，隨著而來的是美國對日漸加強的限制力度，現如今華為在各個領域中都能夠做到不受美國限制，唯獨晶片領域除外！而在晶片領域中還有一個極為重要的因素，那就是光刻機！

光刻機有著「現代光學工業結晶之花」的稱號，它的設計生產過程極為複雜且漫長。

一台普通的光刻機就具有高達5萬個的零部件，並且這5萬個零部件也並不是荷蘭ASML以一己之力打造的，而是集結多方之力打造的，美國的光源設備、技術，德國的鏡頭等技術設備等，每一台光刻機都是人類的智慧結晶的產物。

值得一提的是，其實在世界智能晶片領域中，不僅僅是各大智慧型手機廠商需要台積電進行晶片代工，高通、英特爾等晶片大廠也都需要台積電的代工。

為什麼呢？因為台積電占有著荷蘭ASML極大部分的光刻機產量，因此台積電才能夠占有全世界近半的晶片的代工市場份額。

而荷蘭ASML也是世界上最大的、唯一的能常出口光刻機的生產廠商，並且在紫外光刻技術也是只有荷蘭ASML才能夠實現。

那麼既然這個技術那麼關鍵且強大，我國為什麼不研究呢？對於光刻機技術我國是有研究的，但是因為進展緩慢而沒有多方公布。

現如今我國國產光刻機的希望是上海微電子（SMEE），其是現如今我國唯一能夠生產光刻機的廠商。

在我國上海微電子（SMEE）獨占著國內超80%以上的市場份額，未來或將有希望超越荷蘭ASML，但是現如今我國國產光刻機還是有著很多的弊端，那就是精密零件需要進口，並且就算我們能夠進口到跟荷蘭ASML一樣的零件，我國也沒有使用那些零件的技術。

因此現如今我國僅能製造生產90nm的光刻機，距離荷蘭ASML7nm紫外光刻還有著十分遙遠的距離。

但是近段時間有消息報導，在2021年我國上海微電子（SMEE）將會推出其的第一台28nm光刻機，縮小荷蘭ASML的差距。

現如今我國各大科技廠商都在努力發展，因此上海微電子（SMEE）肯定也不例外，在經過長久的學習和成長，我們希望在未來能夠將荷蘭ASML成功取代！

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