國內光刻機的研發進展如何？華為能否徹底地擺脫對台積電的依賴

國內光刻機的開發

眾所周知，晶片半導體行業的發展狀況一直都是衡量一個國家的科技水平的重要標準。

如果你的晶片工業發達，那麼代表著國家的科技水平領先，反之，則表明科技水平落後。

國內的晶片行業相比於美國等已開發國家處於落後層次，這不僅是因為國內的半導體行業起步較晚，更是因為國外對我國的技術封鎖，導致缺少專業性人才。

所以晶片工業一直進展緩慢，國內能自主設計出晶片的公司寥寥可數。

而光是能夠自主設計對於我們來說還是遠遠不夠的，我們還需要大量的生產製造。

在晶片的量產過程中，光刻機處於非常重要的地位，可以說沒有高端光刻機就生產不出來更精密的晶片。

世界上只有荷蘭的ASML公司能研發出高端光刻機，這樣的情況造成了嚴重的供不應求。

如果國內想要發展晶片工業，就必須藉助於ASML的光刻機，顯然這是我們並不能接受的局面。

所以，國內大量的科研人員投入到了國產高端光刻機的研發中，立志研發出不輸於ASML公司的產品。

那麼經過這麼多年的研發，國內光刻機的水平到底怎麼樣呢？

國內研發光刻機最成功的公司是上海微電子裝備公司，它能做到最精密的加工製程是28nm，這還是計劃於2021年達到的的水平。

很多人可能不太清楚這個數字代表著什麼？

首先，國產28nm水平的光刻機已經能滿足國防和基礎工業的驅動，就算國外不向國內出口晶片，國內也能保持有晶片可用的狀況。

這是不是意味著國內光刻機的研發取得了成功，我們也不用再看別國的臉色了呢？

答案是當然不是，據初步估計，國內研發出的最精密的光刻機距離ASML公司的產品大約有20年的差距。

這是什麼概念？這意味著20年後我們才能達到ASML公司現在的水平，而別人也不會原地踏步等我們追上。

例如，現在國產光刻機最精密的工藝製程是28nm，而ASML公司的EUV光刻機已經具備量產7nm甚至5nm晶片的能力，這其中的差距還是很大的。

但是我們也不能喪失對國內科研人員的信心，畢竟這些技術處於高端層面，想要在短時間內掌握是不可能的。

只有經過大量的時間積累，才能完成技術突破。

華為能否脫離台積電

近日對華為不好的消息一個接一個的傳來，首先是台積電將赴美建廠，主要生產5nm的晶片，這對華為日後的晶片供應來說是個巨大的問題。

其次是特朗對華為的晶片管制全面升級，意在全球範圍內限制華為的晶片供應。

這兩個問題是現在華為面臨的主要問題，而在這兩個問題中，晶片問題是最核心的。

大家都知道，華為手機用的晶片都是由海思麒麟設計，然後交付代工廠量產的。

之前華為的合作夥伴就是台積電，因為台積電是最大晶片代工廠，手裡掌握著最先進的晶片製程，華為正好需要這種技術水平。

但是台積電日後或許會受到美國方面的影響，不再與華為合作，那華為現在能否徹底脫離台積電麼？

華為如果脫離台積電，就必須為自己找好新的晶片代工廠。

目前國內的代工廠只有中芯國際能勉強勝任，但是中芯國際的水平較台積電還有差距，只能完成華為中端晶片的代工。

那麼高端晶片部分呢？華為最好的選擇就是三星，三星是僅次於台積電的代工廠，技術水平也與之不相上下。

如果華為想擺脫對台積電的依賴，三星或許是一個很好的選擇。

雖然三星與美國也有著關係，但是至少還是能自己做主的。

如此看來，華為也不是非要依賴台積電不可。

如果某天台積電真的斷絕了和華為的合作，華為也會有備用的選擇，從而不至於自亂陣腳。

總結

國內光刻機的開發還處於起步階段，仍需繼續努力，爭取早日研發出屬於我們自己的高端光刻機。

正是由於光刻機這一核心技術的落後，華為才不得不遭受這麼多的挑戰。

雖然目前華為還依賴台積電供應晶片，但這種依賴不會存在多久，最終一定會被打破。

華為就算失去台積電這個合作夥伴，也能得到很好的發展。