「什麼值得炒·2」華為麒麟990晶片

第一期的什麼值得炒關注的是華為鴻蒙OS和榮耀智慧屏，推薦的相關題材股最近表現可圈可點，移遠通信階段性漲幅30%+。

第二期什麼值得炒繼續聚焦華為，本周五華為在 德國柏林 IFA 2019 國際電子消費品展覽會上放出大招 —發布了麒麟990（5G）晶片。

華為分別發布了4G版和5G版的麒麟990晶片，5G版的麒麟990集成5G基帶，這是業內首款發布並量產的手機5G SoC晶片。

麒麟990的5G模塊是真正融入到麒麟990 5G晶片中，而不是簡單地封裝到一起，通信模塊和CPU、GPU共享著麒麟990的內存。

相比於外掛5G基帶方案或者簡單封裝方案，功耗更低，數據傳輸速率更快。

麒麟990的4G版和上代麒麟980一樣是採用7nm工藝，而麒麟990 的5G版工藝製程則是7nmEUV，這也是當下最先進的製造工藝。

重點來了，麒麟990晶片的發布必然使得市場短線資金再度聚焦於光刻概念。

EUV指的是極紫外光刻技術，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術，具體為採用波長為13.4nm 的紫外線。

極紫外線就是指需要通過通電激發紫外線管的K極然後放射出紫外線。

光刻技術一直都是現代集成電路設計上的最大瓶頸。

光刻的過程指的是用光來製作一個圖形工藝，將掩模版上的圖形轉移光刻膠上，將器件或電路結構臨時複製到矽片上。

半導體製造過程中最複雜也是最難的步驟就是光刻，光刻機也因此成為最重要的半導體製造設備，研發的技術門檻和資金門檻非常高，是全球最複雜的機器之一。

現CPU使用的工藝都是由193nm光源液浸式光刻系統來實現的。

採用EUV光源就能給矽片刻下更小的溝道，從而能實現在晶片上集成更多的電晶體，進而提高晶片性能。

EUV技術要用到的光刻機，全世界只有一家公司能夠提供，荷蘭的ASML。

研發成本超過60億歐元，耗時10年，EUV光刻機造價不菲而且想買還得排隊。

2018年中芯國際向ASML購買了一台EUV光刻機耗資1.2億美元，花掉了前一年的所有利潤。

華為能夠在自家晶片上率先使用EUV技術，只能說明是真的有錢。

使用EUV技術也就意味著後續可以實現5nm製程晶片技術。

目前國內光刻機的製造商與ASML還有比較大的距離，現在處於量產水平最優秀是上海微電子裝備，光刻機量產的晶片工藝是90nm。

光刻機技術到了90nm是一個很關鍵的台階，設備製造商一旦邁過90nm的台階，後面就很容易研製出65nm的光刻設備，之後再對65nm的設備進行升級，就可以研製出45nm的光刻機。

據業內消息稱，上海微電子已經在對65nm製程的前道光刻設備進行研製。

另外幾家國內的光刻機生產商如中子科技集團公司第四十五研究所國電，合肥芯碩半導體，先騰光電科技，無錫影速半導體量產水平還停留在200nm，差距甚遠。

在A股上市公司中與上海微電子有關係的只有張江高科（600895.SH），張江高科全資子公司張江浩成持有上海微電子裝備10.7%的股權。

如果市場炒作光刻機概念，首選是張江高科，但這種炒作的力度預計會很小，畢竟上海微電子的工藝製程還沒有達到形成非常大的預期差。

還有一個與光刻機概念相關的公司是勝利精密（002426.SZ），準備投資8億到光刻機產業化項目。

光刻工藝另外一個重要組成部分是光刻膠。

光刻膠是光刻機研發的重要材料，光刻機利用特殊光線將集成電路映射到矽片表面，而要想在矽片表面的避免留下「痕跡」，就需要在矽片表面塗上一層光刻膠。

光刻膠是一個被美國和日本幾家巨頭所壟斷的市場，市場集中度非常高，大陸內資企業所占市場份額不到10%。

光刻膠一共有5個等級，g線光刻膠（426nm）、i線光刻膠（365nm）、KrF光刻膠（248nm）、ArF干法（193nm）和ArF浸濕法（193nm）。

g線光刻膠和i線光刻膠技術含量較低，現在半導體主流的8寸晶圓需要KrF光刻膠，更高端的12寸晶圓則需要ArF（193nm）。

從光刻膠概念的炒作想像空間來看，無疑是選擇量產時間最早，研發進程最快的公司。

目前國內企業量產所達到的最高等級是KrF光刻膠。

北京科華研發的KrF光刻膠已經獲得中芯國際等客戶的認證。

是國內光刻膠廠商的頭牌。

與北京科華有直接關聯的上市公司是南大光電（300346.SZ），南大光電在2015年入股北京科華成為二股東，原來是準備控股北京科華，並幫助其擴充產能、客戶導入。

但是收購後卻一直存在後續有效管理問題，根本無法控制北京科華，於是在今年決定全部轉讓所持的北京科華股權。

雖然是跟北京科華分手了，不過現在南大光電是在自行組建團隊進行ArF光刻膠的研發，依然存在炒作概念，資金關注度也比較高。

南大光電將所持的全部31.9%的北京科華股權轉讓給幾家公司，其中有3.67%股權轉讓給了上市公司高盟新材（300200.SZ），這個參股份額較少，預計市場炒作的力度也會比較有限。

另外一個在做ArF光刻膠研發的公司是上海新陽（300236.SZ）旗下的芯刻微材料，研發過程一波三折，最早是與業內資深的鄧海博士合作，然後又鬧掰。

芯刻微的ArF光刻膠因此還停留在實驗室階段，而據業內的消息是上海新陽轉換了賽道選擇研發3DNAND用的KrF光刻膠。

還有幾家公司也存在著炒作想像空間，分別是：

晶瑞股份（300655.SZ）：控股蘇州瑞紅，248nm光刻膠i線，KrF都量產，KrF級已在無錫海力士使用，產品正在中芯國際測試。

容大感光（300576.SZ）：已經做出了248nm光刻膠i線,小批量生產。

個人觀點，僅供參考。