中國半導體光刻設備研究達到了什麼水平？

中國的半導體光刻設備研究處於什麼階段，國內研究的多，有幾家的晶片正在量產使用，清華紫光，阿里，小米，華為，都還不錯，還有一家叫中天微的公司也很好，昨天才被阿里全資收購，以整合資源。

總體來說，中國半導體研究處於小學往初中升學階段吧。

這個半導體好研究，但光刻設備製造就很難了，正在摸索期吧。

要論中國的光刻機設備在技術上達到了什麼樣的水平？那就得看國內第一大光刻機製造商上海微電子的光刻設備是怎麼個情況了。

目前的產品已經覆蓋晶片前道光刻機、晶片後道封裝光刻機、面板前道光刻機、面板後道封裝光刻機、檢測設備和搬運設備等。

上海微電子的晶片前道光刻機已經實現了90nm製程，雖然這比起荷蘭ASML最先進的EUV極紫外光刻機仍有很大的差距。

據業界傳言，上海微電子也已經在對65nm製程的前道光刻設備進行研製（目前正在進行整機考核）。

最後，我覺得有必要補充一則消息，這也是我最近幾天在網絡上看到的（尚無法考證該消息的真實性）。

該消息有這樣一段文字：「2016年底，華中科技大學國家光電實驗室利用雙光束在光刻膠上完成了9nm線寬、雙線間距低至約50nm的超分辨光刻 。

未來如果將這一技術工程化應用到光刻機上，我國就可以突破國外的專利壁壘，直接達到EUV極紫外光刻機的加工水平。

」