台積電急了!中芯「N+1」成功繞過光刻機,這次華為穩了
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晶片是當前人類最高科學技術的結晶,晶片技術的水平也代表了這個國家的發展水平。
而一款晶片的產出少不了兩個主要步驟,一個是設計,一個是製造。
晶片的設計很難,既需要時間、金錢的投入,也需要龐大的人才儲備。
目前全球排得上號的晶片設計公司就那麼幾家,還大部分都是美國公司,好在我國華為公司臥薪嘗膽,早早的就構建了一個龐大的研發系統完成了麒麟晶片的設計。
根據華為創始人任正非透露,在這個系統裡面包括至少有700多個數學家,800多個物理學家,120多個化學家,以及6000多位專門基礎研究的專家和6萬多名工程師。
然而雖然設計完成了,但是在製造這一步卻卡住了,因為受制於核心設備光刻機,我國大陸並沒有全球頂級的晶片製造公司,華為的晶片訂單幾乎全部依靠台積電。
和晶片一樣,最新版本的光刻機也是人類最高科學技術的結晶,如果僅僅說它是一台製造晶片的設備並不恰當,因為光刻機的本質是頂尖科學技術的集成體,最新版的EUV極紫外光刻機只有荷蘭ASML公司能夠製造。
為什麼只有ASML公司能夠製造呢?其實很簡單,得益於其奇特的經營模式,荷蘭ASML公司本身就是一個十分龐大混雜的企業。
根據ASML公司的規定,只有投資ASML,才能夠獲得優先供貨權,簡單來說就是想要獲得ASML的光刻機,那麼就得先成為該公司的股東。
可以這麼說,全球大半個半導體行業都是ASML的合作夥伴,包括英特爾、三星、台積電、海力士等半導體巨頭都是ASML的股東。
因此嚴格說起來,光刻機並不是ASML公司一家的產品,而是大半個半導體行業共同努力的成果。
也正因為光刻機幾乎是整個半導體行業的結晶,所以此前荷蘭ASML公司的總裁才自信的判斷:「中國永遠不可能模仿出世界頂級的EUV光刻機」。
然而在近日,我國中芯國際卻宣布了一項新的技術,採用自研的「N+1」工藝,可以繞過光刻機,對14nm晶片進行改造!
改造之後的14nm晶片將比原來的功耗降低57%,邏輯面積小63%,SOC面積減少55%,這換算下來,正是7nm晶片的數據,雖然是通過「N+1」工藝作出的是「偽7nm晶片」,但這也意味著,中芯國際已經正式成為全球第三家掌握10nm以下工藝的晶片企業。
而如果ASML公司能夠將此前「欠下」的EUV光刻機發給中芯國際,那麼加上「N+1」工藝,在代工技術上將會瞬間超過台積電。
與之相對的,華為也就不必再擔心會被台積電斷供!
在3月底的時候,根據外媒報導,美國方面已經同意採取新措施,限制華為晶片在全球的供應,譬如禁止華為晶片最大的供應商台積電繼續向華為供貨。
對此華為董事長徐直軍的回應是,就算台積電斷供,也可以選擇和三星、聯發科合作。
不過同時徐直軍也表示絕對不會任人宰割,如果美國真的限制台積電對華為晶片銷售,那麼中國市場也不會坐視不理,可能會考慮禁止美國相關產品。
當然,由於疫情嚴重,目前荷蘭公司已經開始考慮採用俄專家的建議,用EUV光刻機換取中國的口罩。
如果真的成功,那麼這將會是繼「方便麵換飛機」之後又一次偉大的「口罩外交」,而華為也將徹底不用擔心晶片會被斷供了!
一家比台積電還要牛逼的企業
今天要講的是一家比較低調的公司,不是從事半導體行業的同學,可能還不太了解這家公司,但在半導體領域卻是「天下無人不識君」的地位,它就是總部位於荷蘭的ASML半導體製造設備提供商。
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