EUV關鍵技術有重磅突破 產業鏈公司受關注

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據懷新投資報導,全球一號代工廠台積電宣布了有關極紫外光刻(EUV)技術的兩項重磅突破,一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶晶片的流片工作,二是5nm工藝將在2019年4月開始試產。

EUV是下一代光刻主流技術,可在大規模製造半導體時能夠有效減少越來越高的成本和工藝複雜程度,EUV被業界認為是破除摩爾定律遇到阻礙的核心設備。

行業龍頭ASML預計2018年EUV設備銷售增長30%達到25台。

產業鏈相關公司望受益。

本文源自證券時報·e公司

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