三星公布晶片路線圖 2020年量產4nm工藝晶片
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現在移動晶片已經進入10nm階段,比如三星和台積電已經開始進行10nm晶片的生產。
根據三星公布的最新計劃,他們的下一步將開始進行8nm工藝的研發。
根據三星的路線圖,三星計劃在今年下半年試產8nm工藝,在2018年實現7nm工藝量產,2019年研發出6nm和5nm工藝,到2020年實現量產4nm工藝晶片。
8nm晶片將使用三星的LLP技術,而7nm LLP工藝將首次使用極紫外光刻,這是一種全新的電路板印刷技術。
三星稱,採用這種技術可減少生產步驟、降低成本和提高晶片性能。
至於4nm LLP晶片,它將使用全新的Multi Bridge Channel FET架構。
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