文章標籤：晶片量產官宣正式巨頭光刻機國產斷供無懼華為

華為無懼斷供!國產光刻機巨頭正式官宣:國產光刻機可量產7nm晶片

文章推薦指數： 80 %
投票人數：10人

閱讀本文前，請您先點擊「關注」，這樣您就可以繼續免費收到文章了。

每天都有分享，完全是免費訂閱，請放心關注。

非常感謝！


　　眾所周知，最近由於美國的「全面打壓」，華為再次成為國內整個科技產業的焦點。

然而，大家也很擔心華為海思半導體的晶片業務是否會受到嚴重打擊。

從台積電和中芯國際等眾多代工巨頭的言論來看，華為和海思半導體晶片可能無法避免「斷供」的尷尬局面，這也直接暴露了當前國內晶片行業的之痛。

雖然我們可以設計出許多優秀的晶片，但我們一直未能在晶片加工方面取得突破，尤其是在高端晶片製造領域，我們一直依賴台積電

　　處於行業領先地位的台積電，能夠生產出最先進的5納米晶片技術，而中國最先進、最強大的晶片代工巨頭中芯國際卻只能生產出14納米技術，距離台積電還有很長的路要走，但更重要的是，很多關鍵設備仍然局限於人，尤其是中芯國際從荷蘭訂購的最新、最先進的紫外光刻設備，雖然我們也可以生產國產光刻設備，但由於美國的阻撓，一直都未能夠完成交付，就光刻設備技術而言，我們的技術也相對落後。

我們還不能製造高端光刻設備。

終於在近日，國產光刻機巨頭—上海微電子傳來了最新的好消息；

　　上海微電子向公眾透露，將在一年內正式交付首款28納米國產光刻設備。

據業內人士透露，國內首個28納米工藝(軟體操作介面)上海微電子SSA/800-10W將於年底正式下線。

單次曝光可以直接實現28納米工藝(軟體操作介面)。

該光刻機也將成為我國最先進的光刻機，其製造工藝將直接超過日本， 佳能和尼康的製造商，成為僅次於荷蘭ASML的世界第二大最先進光刻機巨頭

　　據報導，上海微電子SSA/800-10W光刻機將採用ArF光源，套刻精度約為1.9納米，在多次曝光下能夠實現11nm製程工藝的晶片生產，如果改用套刻精度更優的華卓精科工作檯（1.7nm），在多重曝光下更是能夠實現7nm製程工藝的晶片生產。

　　此外，中國仍在開發高端的EUV高端光刻機，最核心的EUV光源曝光機將由長春機電有限公司開發。

一旦實現技術突破和大規模生產，這意味著中國的晶片製造過程將一步登天，我們的技術水平將大大提高。

未來，上海微電子還將全力支持中芯國際和華為，幫助中國半導體取得突破。

這樣的發展也讓華為和更多的中國科技企業充滿了信心，小編也相信，未來我們一定會有自己的先進光刻機來完全克服晶片製造的「困難」，而華為和更多的國內晶片企業則不用擔心「晶片」的停產。

親愛的朋友們，對於國內光刻巨頭上海微電子的「新突破」，你有什麼看法和看法？歡迎在中， 評論區，留言，期待您精彩的討論！

​非常感謝您的關注閱讀！

請為這篇文章評分？

相關文章