文章標籤：美國施壓荷蘭對華禁售重要設備大使作出錯誤判斷

美國施壓後，荷蘭或對華禁售重要設備，我大使：不要作出錯誤判斷

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對於我國來說，從荷蘭進口的EUV光刻機屬於極其重要的設備，也是2國交流合作的重要項目之一。

但在近日，這一合作卻出現了變數，在美國施加壓力「勸」其不要出售後，荷蘭突然叫停了EUV光刻機的出口，對外放話稱後續動向還需等待最後的決定。

針對這一情況，我國駐荷蘭大使就作出回應表示，希望荷蘭遵守公平貿易及法治的精神，不要作出錯誤的判斷，因為兩國之間的經濟合作持續多年，實現了兩國企業的雙贏，所以這種合作應該繼續保持下去，不應受到外界干預或施壓就有所改變，否則會影響接下來的一些項目合作。

儘管荷蘭尚未作出最後決定，但就目前的態勢來看，美國施壓已經起到了明顯效果，EUV光刻機出口陷入到了停滯狀態，如若無法妥善的處理，接下來局面可能會更加嚴峻。

因此目前的當務之急，除了與荷蘭方面進行溝通外，還應盡最大努力恢複合作，同時準備好各種應急預案，在最壞情況發生時作出合理的應對措施。

談及光刻機外界可能不太了解，簡而言之在CPU的製造中，光刻機是不可或缺的一環，全球範圍內在光刻機技術領域走得最遠的不是日本與德國，而是荷蘭的ASML，該企業是全球唯一一家EUV光刻機設備提供商，占據著絕大多數半導體生產的市場，即便是美國也不得不進口ASML的EUV光刻機設備。

由此可以看出，美國向荷蘭施壓阻止EUV光刻機出口，就是為了卡住我國半導體製造的「脖子」，讓中企在發展上陷入被動，進而保住美國半導體晶片企業全球獨大的地位。

慶幸的是，從2006年開始，我國就提出了光刻技術的中長期規劃，試圖突破光刻機的技術壁壘，為了完成這一目標國家投入大量資金，最終功夫不負有心人，就在2017年我國的光刻機取得突破，自主研發出了SP光刻機，成為世界上第一台單次成像達到22納米的光刻機。

從技術的角度看，我國自主研發的光刻機與荷蘭ASML的EUV光刻機存在較大的差距，但就長遠來看，我國的光刻機已走上了獨立自主發展的「康莊大道」，因為我國已經確立了自主研發光刻機設備的戰略，即使未來西方再對華禁售EUV光刻機，也不再有用，因為我們有了國產替代者！

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