美國阻止荷蘭向華出售光刻機！然而，美企卻擔憂半導體被斷供

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眾所周知，為確保自己在國際上的領先地位，美國時常會做出一些小舉動，比如美國已經限制本國企業向中企出售高科技產品，而最近美國還插手第三國企業與中企做生意，要求這些企業需獲得美國的許可才可以出口。

然而實際上美國卻是在擔心中國在半導體上追趕上美國。

1、美國欲拖延對華出口重要半導體設備，中國卻已實現光刻機國產

據外媒報導，美國從2018年開始就對荷蘭進行勸說，以拖延荷蘭阿斯麥（ASML）公司向中國出口一台價值1.5億美元的EUV（極紫外光刻機）。

ASML是世界上最重要的半導體設備供應商，光刻機則是半導體生產製造環節最重要的核心設備，其關鍵技術一直被ASML公司壟斷。

此前荷蘭已經向阿斯麥公司發放了向中國客戶出售先進設備的許可，但在美國阻撓下，阿斯麥的對華出口許可證去年6月30日過期就沒有再獲得新的許可證，導致該設備至今沒有發貨。

從商業角度上考慮，ASML公司還是希望做成這一筆生意的，因為中國是其增長最快的市場。

2018年，中國企業的訂單占據其營收總額近20%，超過美國公司的16%，僅次於韓國公司35%。

美國阻撓ASML向中國出售確實會對中國晶片產業造成一些影響，但實際上，中國企業並不是完全做不出光刻機，只是從商業原則看，直接購買比自主研發更合算。

金十數據此前曾提及，繼2019年中國自主研發的14nm光刻機初步通過專家組的驗收和審核後，國產光刻機技術再次實現新突破，據報導，去年4月武漢光電國家研究中心的甘宗松團隊，掌握了利用二束雷射進行9nm晶片工藝製程的技術。

2、中國半導體產業屢獲突破，美國卻開始擔憂被斷供

對於美國為何要阻撓他國企業與中國做生意，有聲音指出，這是美國在擔憂中國晶片技術超越美國，但事實上，美國攔得了一時，攔不了一世。

與美國的擔憂不同，中國半導體產業近來在大力發展之下不斷取得了突破，除了光刻機外，中國再其他半導體製造設備均有所突破。

中國半導體巨頭中微半導體掌握著大量具有自主智慧財產權的核心技術，並應用於刻蝕設備和MOCVD設備，中微半導體的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用於從65nm到7nm的IC加工製造及封裝。

造晶片的設備有了，中國的半導體產業自然也迎來了一系列突破。

據此前報導，紫光集團旗下的長江存儲已經開始對自主研發的Xtacking架構的64層三維快閃記憶體（3D NAND）進行量產。

有分析指出，這一突破有望令中國存儲晶片自給率提高到40%，與目前僅8%的自給率相比，可大大降低中國晶片對外依存度，同時也讓中國在該領域與全球頂尖企業的技術差距縮小1到2年。

正是看到了中國半導體的發展，美國才會出此下招阻止中企獲得最先進的光刻機，但實際上，美國自己的半導體產業也是外強中乾的樣子。

據悉，美國晶片生產線正逐漸轉移到海外，美國晶片企業都開始把晶片製造交給台積電等企業承包，美國開始擔心半導體出現被"斷供"的情況。

為此，美國最近一直在鼓勵科技企業在美國重建半導體生產線，確保美國先進晶片的供應，還有美國專家組建議對國內晶片生產進行補貼，但是這類先進工廠的成本可能高達150億美元，補貼難度超乎想像。

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