半導體巨頭宣布！光刻機關鍵材料「破冰」，日、美科技界始料未及

2020-09-19

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眾所周知，華為在5G領域上「超車」，引起了美國為首的西方國家不滿。

從去年中旬，美國川普政府開始了打壓華為的計劃，到如今已經有一年多了，多次計劃未嘗成果，而川普在本月中旬把打壓計劃升級，直接針對華為的晶片供應鏈，華為本身沒有自家的晶片代工廠，而這次被對方拿準了命門。

晶片

目前擁有7nm以下晶片生產技術的企業寥寥無幾，只有台積電和三星。

在智慧型手機領域上，三星是華為的主要競爭對手，華為似乎沒有與三星合作的意向，而三星也不太願意給華為代工。

如今能夠幫到華為生產7nm晶片只有台積電，受到川普計劃的影響，華為只有120天緩衝期，台積電也在全力幫助華為，但過了這段時間後，就是一個不確定的因素。

華為

所以未來的晶片代工希望放在中芯國際上，雖然中芯國際可以通過N+1代工藝實現「類7nm」晶片的量產，但在5nm工藝上，中芯國際也無能為力。

中芯國際曾表示製造5nm以下的晶片，需要EUV光刻機，而AMSL公司受到美國的影響，遲遲不交付光刻機。

不但如此，目前國產半導體行業最大難題是高端光刻機，但想要自主製造光刻機並不是一件簡單的事情，它匯集了多個國家的科技產物，憑藉一個國家的力量，似乎不可能完成。

AMSL公司也曾表示如果把光刻機圖紙公布，也沒人能夠做出來。

光刻機

而在近日，國產半導體傳來了捷報，南大光電宣布國產光刻膠進入最後的測試階段，光刻膠是光刻機的關鍵材料，對於國產光刻機而言，具有很大的意義，這也意味著即將打破日本、美國在該市場的技術壟斷。

南大光電的這項突破，也讓日本、美國科技界始料未及，但相比於日本、美國的光刻膠工藝，依然擁有很大的差距。

光刻膠

在光刻膠市場被壟斷的背景下，國產光刻膠有所突破，這也意味著我國科研人員不比國外差。

光刻機是先進技術發展的產物，儘管國產光刻機與先進光刻機差距甚遠，只要同心協力，製造高端光刻機只是時間問題。

這次，隨著南大光電的好消息，國內半導體行業看到了希望，我們相信總有一天我們也擁有自主研發的高端光刻機，打破西方國家的技術壟斷。

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2020-09-18

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