南大光電突然宣布！國產光刻膠技術再迎突破，日本、美國始料未及

2020-11-04

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中國的華為公司可以說投入了巨大的資金，以及無數科研工作者的不懈努力，耗費了十幾年才終於在5G技術領域實現了全面的超越與領先，可是就在華為自信滿滿的在全球普及5G技術之時，卻突然遭受了來自美國川普政府的百般打壓與抹黑，理由依然是認為華為5G設備存在安全隱患，甚至美國多位高級官員都曾在公開場合抹黑華為，這令很多網友怒不可遏！真的是欲加之罪何患無辭。

美國川普政府其實對中國在美國的基礎通訊領域的公司都進行了打壓，比如華為和中興，中興選擇了接受了罰款，罰款總金額高達10億美元，美國可以說不費吹灰之力就這樣通過罰款獲得了10億美元，用一句中國的老話講「空手套白狼」再貼切不過了，而華為並沒有像中興那樣選擇認罰，華為可以說開啟了全面的反擊，打造去美化供應鏈，重金構建HMS生態，華為以最快的速度將影響降到了最低，而美國川普政府似乎注意到華為非但沒有被遏制住，反而是更加激發了華為的鬥志，便開始對華為的晶片供應鏈「下手」！

在5月15日，美國商務部便發布了一則聲明，將會對全球晶片晶圓的來源進行管控，任何向華為提供半導體技術或晶圓的合作都需要得到美國商務部的審批，不難看出，這一次真的是戳中了華為的「軟肋」，我們都知道華為的高端晶片一直由台積電進行代工，畢竟國內半導體行業的發展雖然有所進步，但是相對於台積電的代工水準來說，就顯得要落後幾代了。

其實國內半導體行業發展如此緩慢的一個原因便是國內無法突破高端光刻機的瓶頸，而光刻機對於半導體行業來說至關重要，華為擁有世界上先進的晶片設計公司海思半導體，如果沒有光刻機，那麼對華為來說一切都只是「PPT」上的美好願景！當然了我們也不能要求半導體領域所有的高端技術都要華為來承擔，在國內晶片代工領域，可以說中芯國際發展的比較好，這個重任的確也必須交給中芯國際來完成，而且近日有媒體實地探訪了上海中芯國際，而且根據上海中芯國際內部的一位高級工程師表示，除了光刻機以外，其餘的設備都已經解決！

正如這位高級工程師所言，高端光刻機領域需要的技術很多，這是一個由諸多尖端科技共同組成的精密設備儀器，不過中國目前已經在光刻機領域實現了很多的技術突破，甚至某些光刻機領域的技術突破填補了國內的空白，就比如中微半導體完成了國產5nm蝕刻機的研發，而且已經被台積電採購並應用到其生產線當中，中國也成為了世界上首個突破5nm蝕刻機的國家，其能夠研發成功還是要感謝背後的科學家尹志堯！

當然了在光刻機領域除了蝕刻機技術之外，還有一個至關重要的技術，那就是光刻膠技術，毫不客氣的說，如果沒有光刻膠技術，即使擁有了高端光刻機也是徒勞，光刻膠是用來在電子技術中微細圖加工中必不可少的關鍵材料，而且作用更是用來在晶片製造中將掩膜版圖形轉移到表面頂層光刻膠中，並且在後續晶片工藝中，可以起到保護材料免受刻蝕以及阻擋電離子注入作用。

不過在光刻膠領域長期被日本，和美國所霸占，根據權威統計機構公布的數據來看，日本和美國兩者在全球的市場占比達到了90%，可以說完全壟斷全球的光刻膠技術，但是面對這樣的技術壟斷封鎖，中國的南大光電頂住了巨大的壓力，終於在近日突然宣布了一個重磅消息，南大光電錶示目前已經在國產ArF光刻膠技術上取得了巨大的突破，同時國產ArF光刻膠也即將量產並進入到銷售階段，雖然目前我們仍然無法造成自己的高端光刻機，但是在光刻機領域中的其他相關技術，中國一直沒有停止前進的步伐。

而且南大光電在國產ArF光刻膠的突破，也打破了日本和美國的市場壟斷，也能在光刻膠市場上占據一席之地，此次在光刻膠領域的突破，更是在向高端光刻機領域向前邁出了「一大步」，也讓日本和美國始料未及，這無疑佐證了面對國外技術的封鎖，中國照樣能夠研製出來。

而且令人可喜的事情便是中國日前對國內半導體行業開始大力扶持，比如國家級基金注資中芯國際，可以看到國內半導體行業將會迎來一次巨大的機遇，當然了也充滿了無窮的挑戰。

高端光刻機領域涉及多種尖端核心技術，中國目前正在抽絲剝繭，逐個技術開始進行攻破，相信在不久的將來，中國一定有能力造出自己的高端光刻機，中國科技的未來值得我們所有人相信和期待！

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