台積電試產5納米!三星望塵莫及

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晶圓代工廠台積電昨天宣布,5納米製程已進入試產階段,在開放創新平台下推出完整的5納米設計架構,協助客戶實現5G與人工智慧的5納米系統單晶片設計。

台積電錶示,相較7納米製程,5納米的微縮功能在安謀(ARM)的Cortex-A72核心上能夠提供1.8倍的邏輯密度,速度增快15%。

5納米製程還具有極紫外光(EUV)微影技術所提供的製程簡化效益,台積電指出,5納米製程能提供晶片設計業者全新等級的效能及功耗解決方案,支援下一世代的高階行動及高效能運算應用產品。

台積電研究發展與技術發展副總經理侯永清表示,在5納米世代,設計與製程需要密切的共同最佳化,台積電與設計生態系統夥伴緊密合作,確保在客戶需要時能提供經由驗證的矽智財組合與電子設計自動化工具。

台積電與Cadence、Synopsys、Mentor Graphics及ANSYS,透過台積電的開放創新平台電子設計自動化驗證專案,進行全線電子設計自動化工具的驗證。

台積電指出,5納米設計架構包括5納米設計規則手冊、製程設計套件及通過矽晶驗證的基礎與介面矽智財,並且全面支援通過驗證的電子設計自動化工具及設計流程。

三星望塵莫及

根據目前全球晶片製程工藝的分布來看,能夠具備7nm一下製程研發生產能力的企業目前僅有台積電、三星以及英特爾。

而台積電率先搶占7nm製程高地,為企業帶來了豐厚的利潤回報和技術儲備。

台積電製程技術已經把三星甩在身後,後者預計2020年才會進入7nm EUV時代。

台積電支持極紫外光(EUV)微影技術的7nm加強版(7nm+)製程已經按原計劃於3月底量產,全程採用EUV技術的5nm製程已經進入試產階段。

台積電製程工藝規劃

報導稱5nm製程享有極紫外光微影技術所提供的製程簡化效益,同時也在良率上有明顯改善,相較於台積電前幾代製程,5nm製程達到了最佳技術成熟度。

雖然目前三星已經先不7nm EUV製程進入量產,但是至今尚未投入使用。

三星公布的資料顯示,華城廠區預計2019年底才會全面完工,這意味著7nm EUV製程真正大量生產要等到2020年年中。

如果台積電能夠按照計劃率先實現5nm製程量產,那麼無疑蘋果、高通、NVIDIA等都不會冒險向三星下訂單,而AMD早已宣布7nm以下全面擁抱台積電。

業內人士預計,砸下重金投入7nm以下製程的三星勢必會通過打價格戰搶奪客戶資源。


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