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精華 | 先進位程EUV光刻機，你需要知道的有這些知識

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晶圓製造產業進入7 納米製程之後，目前全世界僅剩台積電與三星，再加上號稱自家10 納米製程優於競爭對手7 納米製程的英特爾等，有繼續開發能力之外，其他競爭者因須耗費大量金錢與人力物力的情況下，都已宣布放棄。

就在7 納米製程節點以下先進位程的領域，必不可少的關鍵就是極紫外線微影（EUV）設備導入。

除了三星用在首代7 納米LPP 製程，台積電也自2019 年開始，將EUV 導入加強版7 納米+製程。

所謂的極紫外線微影設備EUV，就是Extreme Ultraviolet 簡稱，使用通稱極紫外線之極短波（13.5nm）光線的微影技術，能加工至既有ArF 準分子雷射光微影技術不易達到之20nm 以下的精密尺寸。

不但能降低晶圓製造時光罩使用數量，以降低生產成本，並提高生產良率，也因能加工過去ArF 準分子雷射光微影技術不易達到的20nm 以下之精密尺寸，更有助半導體產業摩爾定律（Moore's law）再往下延伸，讓半導體產業發展持續精進。




因EUV 設備扮演如此關鍵性的角色，使全球晶圓生產企業都希望獲得此設備。

2012 年，全球三大頂尖晶圓製造廠商英特爾、台積電、三星等加入全球EUV 市場占有率90% 以上的艾司摩爾（ASML）「客戶聯合投資專案」（Customer Co-Investment Program），分別取得艾司摩爾15%、5% 及3% 股權，保證取得EUV 優先供貨。

聽了這麼多有關EUV 設備的敘述之後，或許大家都懂了這是什麼樣的設備，但卻很難想像，EUV 不過就是一台微影設備，究竟體積會有多大？日前ASML 就表示，目前最大年產量僅30 台的EUV 設備，每台重量高達180 公噸，每次運輸要用3 架次貨機才能運完。




ASML 表示，目前半導體先進位程不可或缺的EUV 設備，每台有超過10 萬個零件，加上3 千條電線、4 萬個螺栓及2 公里長的軟管等零組件，最大重量達180 公噸，每次運輸必要動用40 個貨櫃、20 輛卡車，並3 架次貨機才能運完，且每部造價超過1 億美元。

在這麼龐大的數字下，可以想見ASML 為什麼一年最高產量只有30 部EUV 了。


來源：technews、智能前沿技術（微信公號）

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