打破技術壟斷！首台10納米光刻機應運而生

在早期的晶片發展中，我國一直處於劣勢，但現如今，隨著科技的發展，晶片技術也逐漸拉近了與國外的距離。

其中華為海思、中芯國際、台積電這些晶片巨頭的深耕發展，讓我國逐漸擺脫「無芯」的困境。

​近日，據爆料稱，我國利用紫外線光源成功研發了22nm製程的光刻機，這是我國自主研發首款光刻機，可用於生產10納米級別的晶片。

相較於7nm雖然還是美中不足，但這卻代表著我國晶片技術得到了一個更好的發展。

眾所周知，不管是哪個行業的生產都離不開設備，而IC晶片對設備的依賴更強。

按照製作過程劃分，IC設備可以分為晶圓製造設備、封裝設備和測試設備。

按照製程技術劃分，晶圓製造設備又可劃分為光刻機、刻蝕機、CMP設備、薄膜沉設備和檢測設備等。

​而在眾多設備中，光刻機的技術指數顯然是最高的，光刻機技術一直以來都被荷蘭廠商ASML一手壟斷，與此同時，EUV製程也僅有ASML掌握該技術。

其他企業只有通過合作購買才能擁有此項技術，要想打破這種代加工模式，唯有實現自研。

還有一個不可或缺的設備就是刻蝕機，刻蝕設備的難度較低，其中最有話語權的當屬中微公司，中微是我國集成電路設備行業的佼佼者，也被稱為「7納米晶片刻蝕機龍頭」。

刻蝕設備領域是處於高度壟斷的競爭格局，中微公司能實現彎道超車著實不易。

​中微企業從 65 nm到 14 nm、再到7 nm和 5 nm，中微一直呈現一個很好的發展態勢。

要想解決晶片這塊龐大的資源缺口，僅僅依靠一兩家企業是遠遠不夠的，目前最主要的任務就是打破壟斷，才能應對突如其來的斷供危機。

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