中國突破晶片技術壟斷第一人：60歲回國創業寫下晶片界傳奇

半導體晶片「自主研發」已然成為中國科技產業發展的關鍵共識，但有一家半導體設備企業早從 14 年前就開始為中國科技產業研發實力積累埋頭苦幹，更在三年前因成功開發「等離子刻蝕機」而聲名大噪，讓美國商業部將該技術從「國家安全出口管制」名單中剔除，這是中國半導體技術研發史上的一大勝利，這份成就，來自於中微半導體。

中微半導體是國家集成電路產業基金（大基金）成立後投資的第一家公司。

在 2017 年 1 月美國總統科技專家委員會（PCAST）發布的國情咨文「確保美國在半導體產業的長期領導地位」報告中，分析中國集成電路的晶片設計、製造、設備、材料和封裝產業，在 32 頁的報告里唯一提到的中國公司名字就是中微（AMEC）。

「國產設備界教父」尹志堯，創業史與「中國半導體之父」張汝京十分相似

身為中微半導體創辦人之一，目前擔任中微董事長的尹志堯博士在國產半導體設備界創業的過程，與中芯國際創辦人張汝京有著非常相似的背景。

張汝京從美國德州儀器到台灣創立世大集成電路（WSMC），又到上海創立中芯國際。

而尹志堯則是在 60 歲從美企應用材料退休後，到上海創立中微，更在過去 11 年裡三次從國際大廠的輪番法律訴訟戰中，成功全身而退，創下中國半導體發展史上傳奇的一頁。

DT 君日前獨家採訪尹志堯，即使對中國半導體設備技術的貢獻成就卓越，他仍是一身謙遜儒雅的文人風範。

圖丨尹志堯

在採訪一開始，他「囑咐」DT 君的第一句話不是別的，是希望這個採訪不要著墨太多個人事跡，因為中微不是他一個人創立的，當初從美國回到中國的創業團隊有 15 個人，至今都是公司重要骨幹，包括全球業務副總朱新萍、資深副總杜志游、副總倪圖強等，中微今日的成就，是所有人的共同努力。

尹志堯又強調，中微是從事產業技術發展和商業競爭的事，不希望提高到政治和戰略的高度，做過分的渲染。

然而，如果讀者知曉尹志堯的一生事跡，可以了解他的職涯、創業過程，為什麼會是中國半導體產業發展過程中，無法忽略不提的的重要標竿之一。

半導體發展像舉鼎，資金、人才、政策缺一不可

這幾年晶片產業正在風口上，很多人說中國半導體發展已有很長時間，但今年是「起風」的一年。

尹志堯語重心長指出，中國半導體產業還非常弱小，最大矛盾是不對稱競爭，中國企業的規模是外商大廠的十分之一到二十分之一，研發投入也只是外企的十分之一到二十分之一，在這種不對稱的競爭勢態下，如何能發展壯大？

尹志堯形容，發展半導體晶片產業就象是支起一個鼎，鼎有三個腿：資金、人才和政策。

只要三個腿堅強有力，而且均衡支撐，產業的鼎就會順利頂起。

近年來晶片投資蜂擁而至，看起來形勢很好，但有三個嚴重的不平衡：資金一頭大、人才嚴重不足、促進產業發展的政策需要進一步改進升級。

這一波資金聚集在晶片製造，占總投入資金 90% 以上，然設備和材料領域占晶片製造廠成本 80%，分得的投資占比卻不到 5%，是嚴重不均衡。

根據 SEMI 統計，2017 年中國占全球半導體銷售量 15%，排名全球第三，預計在 2019 年可攀升至全球第二，然而中國本土 IC 設備自製率卻低於 5%，仍是在巨頭間掙扎。

另一個問題是，幾乎全部的資金投入都是股本金，但缺乏長期低息貸款和研發項目資助，單純的股本金投入晶片生產線，是不能達到預期回報的。

在政策上，投融資政策、所得稅、進出口、勞動法、產業鏈本土化、員工期權激勵和 IPO 上市政策等都需要做適當的調整，很多相關政策都是從改革開放前期，為促進引進技術、來料加工而擬定的，現在應該要全面重新檢視。

尹志堯強調，如果能迅速解決這三個不平衡，國內的半導體晶片產業就會高速、健康、均衡的發展。

半導體關鍵設備不只「光刻機」，7 納米以下「等離子刻蝕機」需求量飛速成長

中微半導體是生產晶片過程中最關鍵的設備：等離子刻蝕機和化學薄膜設備的供應商。

觀察半導體產業的演進，從上世紀 50 年代的 128K 的電子管計算機，到 80 年代 128K 的存儲器件，再到 2015 年 128G Flash，人類微觀加工的能力在面積上縮小 1 萬億倍，這個意思是，如果把今天的手機退回到 50 年前，相當於 200 萬棟五層樓里充滿了電子管。

微觀加工能力實現的關鍵，來自於晶片製造過程中近十個關鍵程序，分別為擴散（Thermal process）、光刻（Litho）、等離子刻蝕（Etch）、化學氣相薄膜（CVD）、物理濺射膜（PVD）、離子注入（Ion Implant）、化學機械拋光（CMP）、清洗等。

分屬於這些程序的設備為擴散爐、光刻機、等離子刻蝕機、化學氣相沉積設備、物理濺射設備，離子注入機、化學拋光機和清洗機等。

一般人提到半導體設備，首先想到的是光刻機，仿佛有了光刻機，所有晶片製造問題都迎刃而解。

然殊不知，晶片製造程序千百道又極度複雜，只有光刻機是無法完成生產一片晶圓的。

在晶片製造中，有三道最關鍵的程序分別為光刻、等離子刻蝕、化學氣相沉積，在晶圓製造的過程中不斷循環重複，衍伸出來的設備產值也最高。

若論難度，光刻技術是設備技術障礙最高的，而等離子刻蝕的難度是來自於上千種工藝過程開發的難度。

半導體製程技術到了 14 納米、 10 納米的結構，需要走入二重模板（Double Patterning）曝光技術，因此對於刻蝕和薄膜的整合設計需求大量提升，才能符合更小線寬的要求，這樣的趨勢更讓刻蝕機和化學薄膜的組合拳成為晶片製造過程中，更重要的關鍵步驟。

再者，2D NAND 轉進 3D NAND 技術的產業演變，也讓光刻技術的需求減少，反而是刻蝕和化學薄膜的需求量大增，使得這兩項設備組合拳成為市場增長最快的產品，年增長超過 16%，其中，等離子刻蝕已占整個設備投資比重高達 22%，正式超過光刻機。

中國一座座平地而起的晶圓廠，讓尹志堯不甘終生幫外企作嫁

談起當年投身創立中微為中國半導體產業打造自主技術設備的歷程，尹志堯認為進入一個產業，選對市場細分選項很重要，刻蝕機是處於高速成長的市場軌道上，年需求量已超過 70 億美元，而到 2025 年預計達到 150 億美元。

把該市場做好，中微的成長性自然不斷向上。

目前中微已經突破由美商應用材料、泛林研發（Lam Research)、日本 TEL 外商壟斷的刻蝕機市場藩籬，擠入全球前五大供應商，打入眾多國際大客戶包括台積電、英特爾、聯電、 GlobalFoundries 、中芯國際、華力、長江存儲，博世和意法半導體等 40 條生產線。

尹志堯致力於物理化學反應器領域已有 50 年，在 1980 年到美國前，就在石油化工和中國科學院從事催化劑和反應器的研究和工業生產。

在美國獲得博士學位後，先後任職於英特爾、泛林研發、應用材料等國際半導體大廠。

14 年前，已從應材退休的尹志堯看著中國一座座平地而起的晶圓廠，內心不甘於一生所學都是「為人作嫁」，有感於亞洲半導體發展很快，中國變化更大，他們十幾個人毅然決心回國，為正興起的中國集成電路產業做出貢獻。

小蝦米對大鯨魚，三次國際大廠專利大刀砍來都奇蹟脫身

中微在中國半導體產業的傳奇，不單是打破關鍵技術的壟斷，其創業 14 年來，憑「小蝦米」之姿，面對三次「大鯨魚」的專利侵權訴訟大刀砍來，都奇蹟似地從被動到主動，一直處於不敗之地，也是一頁傳奇。

時間重回 2007 年，就在那年中微剛研發出來的刻蝕機，即將進入國際最先進的晶圓代工生產線時，他的老東家應材認為有竊密之嫌，因此在美國聯邦法院提出訴訟。

為了證明自己的清白，中微聘請了美國一流的智慧財產權訴訟律師，花了兩年半的時間，徹查了中微 600 多萬件文件和 30 多人的電腦和文件，都沒有找到關於應材的圖紙，技術數據和商業機密，這個訴訟最終得到和解。

談到這段歷史，以及後來在網上的報導，尹志堯特別跟 DT 君強調，網上關於當年他和同事從美國回中國創業，被美國當局清查了電腦，沒收了所有的 600 萬件文件，是被渲染的不實報導，是把商業競爭不必要的提高到其他層面所產生的副作用。

在中微和應材的官司還沒和解之前，另一個美國競爭對手：泛林研發又向中微發難。

泛林研發在 2009 年在台灣狀告中微的專利侵權。

尹志堯表示，公司創立時就研究過對方的專利，確認其專利無效的，即使對手的專利是有效，中微的設計是不一樣的，也未侵犯其專利。

該官司只經過 8 個多月，中微就取得了一審的勝利，對方上訴四次都被法院駁回。

而在此過程中，中微更掌握確鑿的證據指出對方竊取中微高度機密的技術文件，並在上海法院提出告訴，最後取得訴訟的勝利。

第三起專利訴訟來得兇猛，一度讓中微的產品遭禁運

看到這裡，可以知道中微的創業過程，是一路被告到大的小孩。

而接棒砍下第三刀侵權官司的，是 2017 年 LED 設備廠商 Veeco 在美國紐約地方法院告 MOCVD 石墨托盤供應廠商給中微提供的石墨托盤侵犯 Veeco 專利，而中微也立即採取反制行動，向中國專利局與其他國家專利主管機構訴請 Veeco 的專利無效進行反擊。

但就在美國法院仍在審理 Veeco 專利是否有效、中微設計是否侵權時，美國方面就先宣布對石墨托盤出貨禁令，讓中微無法獲得供貨，由於石墨盤是一個消耗件，此一變化讓使用中微 MOCVD 設備的 LED 客戶幾乎停產。

之後中微訴請 Veeco 的專利無效得到批准，且在福建法院狀告 Veeco 托盤鎖定的設計侵權，最後福建高等法院也對 Veeco 進口中國的 MOCVD 設備實施出貨禁令，一連串的動作讓 Veeco 不得不妥協，進而與中微進行和解談判，除了撤銷相關訴訟外，更進一步同意與中微共享石墨托盤專利。

僅 18 個月就取下國內 MOCVD 設備 70% 市占，國產設備的另一奇蹟

講到 MOCVD 設備的開發、量產到國內市占率橫掃千軍，是中微的另一個驕傲。

2009 年時，藍光 LED 熱潮襲卷全球市場，政府大量補貼 LED 公司，鼓勵建立 LED 生產線，當時的 MOCVD 設備市場全掌握在美國 Veeco 和德國 Aixtron 兩大外企之手。

在 2009 年到 2010 年之間，中國有高達 54 家的公司和研究所計劃開發 MOCVD 設備，想要搶搭這一波熱潮順風車，其中至少 25 家已開始開發，但 7 年後，真正量產的只有中微一家。

從 2016 年起，中微用僅僅 18 個月的時間就在中國的 MOCVD 設備市場拿下 70% 以上市場，取代了原本由美、德設備長期掌控的產業，打下不可思議的勝仗！

奇蹟是如何被創造的？尹志堯表示，我們用半導體最高水平的技術去做 MOCVD 機台，且這項產品和中微做過的 CVD 技術很類似，其他公司可以做出「樣機」，但樣機只是完成設備開發的 20 ％。

三次深陷國際大廠侵權訴訟的中微，次次全身而退，步步越戰越強，尹志堯強調重視知識財產權的重要性。

要做全球生意必須尊重各國法律，尊重智慧財產權

他早年任職於美商大企業，對待每一次的職業轉換都非常嚴肅認真，絕對不攜帶任何資料到新公司，絕不侵犯任何專利，也這樣要求所有加入中微的員工。

他強調，集成電路是國際化產業，要進入這個產業必須要遵守中國，也要遵守美國的法律，才能做全球生意，如果違法而被制裁了，也不能將此無限上綱到政治層面。

尹志堯認為，中國人對集成電路是有一定天賦，只要努力一定做得成，但過程必須要非常尊重智慧財產權，產業發展幾十年下來，很多前人的技術研發成果已在前方，後面加入的人不可能不借鑑前人，但必須尊重別人的智財權，繞道而行，或是付專利費。

從 2012 年開始，中微過去 6 年的每年營收成長率都保持 35% 上下，這兩年的年營收增長更是超過 50%。

對於中微未來的期許，尹志堯表示，希望在 2028 年達到營收 100 億元，在規模上進入國際工藝設備公司的前五強企業。

尹志堯強調，集成電路是全球化產業，不可能把它變成任何單一國家獨占的產業，且不可否認地，近幾十年來晶片的技術開發和大生產，以及半導體設備產業都往亞洲延伸，中國的集成電路產業興起，是繼日本、韓國和台灣發展後必定要發生的，任何人也阻止不了這趨勢。

如尹志堯所言，中國集成電路產業的起飛，是歷史的必然，是任何力量也擋不住的趨勢，但是，這是一個國際化產業，必須堅持開放的做法，千萬不要像某些人那樣關起門來搞，同時必須高度重視智慧財產權，才能保障產業的健康發展，唯有如此，中國的集成電路產業才能真正接軌國際，趕上世界先進水平。