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稱不用EUV！中芯國際將在第四季試產7納米，國產化終於來了

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相信大家對中芯國際並不陌生，此前由於美國的多方阻撓，中芯國際原本花費1.2億美元從荷蘭訂購的EUV光刻機設備交付遙遙無期，外界擔憂中芯國際只能徘徊在14nm左右。

因為EUV光刻機是實現7nm以下先進位程工藝必不可少的設備。

但是現在好的消息是，中國半導體大廠中芯國際將於今年第四季量產14納米並且投入7納米的試產，預其明年也能正式量產，稱不用EUV。

中芯國際已經規劃了N+1、N+2製程工藝。

新製程工藝N+1作為14納米的後繼者，而且性能相比14納米性能提高了近20%，也被稱為7納米製程的開始。

而且N+2製程工藝更加突出，同樣被稱為第二代7nm工藝。

其實台積電、三星在發展7nm工藝方面，同樣發展了3種製程。

中芯國際此次新製程不直接以節點命名，或許也是新思路發展7nm策略的一環。

中芯表示這兩種製程都不需要使用EUV光刻機就能完成。

若7納米明年真能在缺乏EUV設備的情況下順利量產，會是個好消息。

值得注意的是中芯國際目前量產的最先進位程為第一代FinFET 14nm工藝，該工藝已經成熟產量，產能已經在逐步提升，2019年第四季度已貢獻1%營收。

如果有了最新的EUV光刻機，就意味著中芯國際也有了生產7nm晶片的能力，中芯國際和台積電的代差也越來越小，具有梁孟松和光刻機的中芯國際，將會越過10nm跨代研發7nm。

而現在由於美國從中作梗，中芯國際沒能獲得最新的7nm EUV光刻機，所以只能按照三步走，逐漸向7nm成熟工藝靠攏。

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