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華為轉機？國產光刻機大突破，實現「三連跳」，正式邁入高端行列

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最近因為禁令華為再次成為了大家關注的焦點，根據最新的禁令顯示，只要設計了美國方面的技術，在為華為提供服務之前，都需要申請許可證。

同時有著120天的緩衝期，9月15日正式實施開始，華為的各項業務都會受到致命的影響，尤其是晶片的供應。

後續有人會問了，晶片不是都是華為自研的嗎？為什麼還會面臨斷供的問題呢？確實就像是華為的麒麟處理器，是有華為自己自研的，但是晶片並非自由自研一道工序，而且就算是華為自研的麒麟處理器中還使用了ARM的架構，而ARM最新的架構A78中使用了大量的美國技術。

同時晶片設計完成之後，還需要生產，華為雖然可以自主設計，但是華為並不能自己生產，都是由台積電等代工廠代工。

但受到禁令影響，這些代工廠都無法為華為代工，代工晶片最重要的就是EUV光刻機了，今年下半年5nm工藝將會正式商用，而5nm的光刻機都是由ASML提供的，ASML雖然是一家荷蘭公司，但ASML的光刻機中就包含了大量的美國技術，畢竟ASML能夠有今天和美國有著千絲萬縷的關係。

所以晶片代工要實現真正的國產，才有辦法為華為代工，那麼就只能夠寄希望於國產光刻機了，最近關於國產光刻機傳出了一個好消息，國產光刻機實現了「三連跳」，有了重大的突破。

該消息來自上海微電子，上海微電子的光刻機從90nm工藝突破到了28nm，直接跳過了65nm和45nm工藝，實現了「三連跳」，同時在2021年或者2022年就會進行交付了。

雖然說28nm工藝和現在的7nm甚至是5nm來說都有著巨大的差距，但是這已經是全球第二的存在了，要知道除了ASML之外，目前也就日本尼康和佳能能夠生產55nm工藝的光刻機。

另外這台28nm的光刻機和一般的光刻機不太一樣，這台光刻機是可以實現7nm工藝的光刻機，也就是說這台光刻機可以生產7nm晶片，採用華卓精科的工作檯，在經過三重曝光之後，套刻精度可以提升到1.7nm，也就可以生產7nm晶片，步入7nm晶片已經算是進入了高端晶片行列了。

現在7nm晶片已經是真正頂端的晶片了，驍龍865、蘋果A13、麒麟990 5G採用的都是台積電的7nm工藝，如果能夠儘快實現量產，那麼國產晶片就不會有斷供的危險了，華為也就有轉機了，當然了晶片的生產不僅僅只要有光刻機就行了，其中的多種工序，也有不少是我們國內目前還處於比較落後的地步的，但我們相信終究會像光刻機一樣，都會得到突破。

雖然說現在還有差距，但是不管怎麼說，國產光刻機能夠在這個時候實現「三連跳」是一件可喜可賀的事情，希望國內能夠出現更多像華為像上海微電子這樣的高科技企業，都努力的研發自己的核心技術，打破西方國家的技術壟斷，讓我們真正不懼任何技術封殺，對此你怎麼看呢？

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