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上海微電子13年前成功量產90納米光刻機，13年後的今天還是90納米

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最近由於美國技術禁令的影響，晶片產業又回歸到了人們的視野當中，中國的晶片產業到底與美國差上了多少？舉一個不恰當的比喻，中國的晶片產業要比美國現在的頂尖技術至少差了30年的時間。


其中製造晶片最主要的機器是光刻機技術，目前這個最先進光刻機只有荷蘭的阿斯麥能夠生產。

現在晶片廠商弄著5納米7納米晶片生產，而中國的光刻機技術，還停留在90納米的時代。


中國最強的光刻機技術廠商應該是上海微電子，成立於2020年，經過5年的不懈努力，在2007年的時候，成功量產了90納米製程的光刻機，相當於2004年奔騰晶片的製程，那麼，過了去了13年，上海微電子的技術還是停留在90納米。

最新消息，上海微電子將於2021年，交付28nm光刻機，然而與荷蘭最先進的EUV光刻機，仍然有巨大的差距，EUV光刻機能夠生產5nm工藝的晶片。


那麼經過了這麼多年的發展，為什麼，中國的光刻機制技術還停留在十幾年前的技術呢?

第一，中國晶片技術產業發展起步比較晚，我們從零開發到聘請國外專家來製作低端晶片的研發技術，已經費了很大的功夫。

第二，技術封鎖原因，荷蘭最先進的光刻機技術呢，一直以來有多個國家多個公司進行掌控，那麼他們對技術方面這一塊特別的嚴謹。

因為想要造出世界上最好的晶片不是一個國家能夠完成的事情，而是需要多個國家多個大型企業來對你進行扶持研發以及技術的支持。


荷蘭ASML最先進的EUV光刻機，90%的關鍵零部件來自於外來，美國的光源和計量設備、德國的鏡頭、法國的閥件、瑞典的軸承，最麻煩的是這些超精密儀器和設備是禁運的，上海微電子也只是系統集成商，關鍵零部件並不是自己生產，只有國內供應鏈完善，才能發展下一代光刻機，這也是從90nm到28nm，用了13年的原因。


所以說，中國這麼多科技公司其實就應該聯合起來了，一定要儘快的尋謀出路，不然等到美國真正的手段下來之後，中國的晶片產業將會停滯不前。

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