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三星加速實驗6nm工藝 領先台積電 Intel

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2017-07-18 10:15:45 作者：吳紫磨

現在是個製程滿天飛的時代，過去Intel一家獨大引領晶元工藝進步的格局已經被打破。

雖然Intel自己和很多業內人士認為同為14nm，Intel製程的漏電率、功耗等技術優勢仍然是三星14nm、台積電16nm所不具備的，甚至根據線寬嚴格計算，後兩者的宣傳水分都很大，但在民間輿論上，數字領先的誘惑還是無可抵禦的。

日前，三星決定加速6nm製程工藝研發，矢志在新的製程大戰中再下一城。

當然，三星的6nm可能更加偏向於手機SOC CPU的製造，同時也保留有7nm的晶元生產線，與其聯姻的格羅方德為AMD等製造7nm的CPU、GPU,明年可能就要出來了。

此前有消息稱台積電的7nm工藝也已經流片十三次，IBM 的5nm工藝進入實質性階段。

面對百花齊放的局面，Intel 10nm工藝製程也許會更有技術優勢，但至少在民間形象上已經受到了一些影響。

此前的消息表示，Cannonlake 進度也許會提前，但Intel 10納米工藝初期難上高頻，確定只能用在更強調能耗的筆記本平台上。

面對製程大戰，最高興的可能是新銳光刻機廠商了，荷蘭ASML表示，EUV（極紫外）光刻機可用於7/6/5nm工藝，Intel、台積電、三星等都採購了相關設備。

不知道ASML 的老對手，已經默默無聞的光刻機廠商兼影像廠商尼康會有什麼心裡感想。

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