趙海軍作為中芯的原營運長，是第一位在大陸出身的CEO，第一位「職業經理人」CEO，對中芯有著深厚的感情，並且有著識大體的格局和胸懷。

梁孟松作為一名讓業界時時關注的風雲人物，從加入中芯的那一刻起，就直指尖端的技術工藝。

梁孟松在台積電時，台積電曾在130nm工藝上一舉擊敗IBM，當時負責先進模組的梁孟松可謂給台積電立下了一大功；梁孟松2011年加入三星後，三星的製程就從32nm/28nm Planner技術直接跳級到了14nm FinFET技術，並在2014年底開始量產14nm FinFET工藝。

有業內人士曾這樣評價梁孟松：「梁孟松作為國際上知名的產業領袖，加入中芯後的現金薪酬只有稅後20萬美元！真以為中芯國際的公告少寫了一個零！我想這其中有梁博士發展產業，實現自我理想的使命。

」

梁孟松在中芯日前舉辦的2018年Q1法說會上表示，中芯國際將在2018年下半年開始量產28nm HKC+工藝，2019年上半年開始風險試產14nm FinFET工藝。

雖然中芯的14nm FinFET工藝比起英特爾、台積電、三星和格羅方德仍顯得落後了一些，但在國內絕對算得上是一大了不起的工藝技術突破（中芯是從現有的28nm工藝直接跳級以研發、投產14nm工藝）。

人們可以確信的是，在將來，中芯必定會向著10nm以下的工藝不斷地探索。

而中芯要研發並投產10nm以下的工藝，就必須要引入光刻機巨頭ASML的EUV極紫外光刻技術。

近日，據日媒Nikkei Asian Review報導，全球最大的光刻機設備製造商AMSL已經向媒體證實，中芯向ASML訂購了一台最新型的EUV光刻機，這台光刻機的價值高達1.2億美金。

預計2019年年初，ASML就可向中芯交付這台EUV光刻機。

當然，如果Nikkei Asian Review提供的這一消息的確屬實，那麼國人們其實可以對中芯抱以更樂觀的預期和信心。

伴隨著晶圓製造行業持續地推進位程工藝，傳統的193nm浸沒式光刻機終將無法滿足晶圓製造行業的需求，業界開始尋求更先進的EUV光刻機。

ASML作為全球最大且唯一的EUV光刻機製造商，終於在最近兩年里取得了進展。

三星電子最新的7nm工藝，就引入了ASML的EUV光刻機。

所謂的EUV，是指波長為13.5nm的光。

與當前光刻機所用的193nm光源相比，EUV光源能給矽片刻下更小的溝道，從而實現在晶片上集成更多的電晶體，進而提高晶片的性能，繼續延續摩爾定律。

業內人士估計，整個行業界在研發EUV光刻機的過程中，前前後後至少也已投入了200億美金。

另據國內的科技媒體「芯思想」不久前在平台發表的一篇文章稱，2017年，全球光刻機的出貨量達294台，其中有近70%的光刻機均出自ASML；並且，包括英特爾、台積電、三星電子、格羅方德、SK海力士和台聯電等行業中一線的廠商都是ASML的客戶。

單就EUV光刻機而言，ASML已經開始向客戶批量供貨，日本的尼康還要繼續對EUV光刻機進行技術上的突破，而日本的佳能基本算是放棄了研發EUV光刻機。

2017年，ASML一共出貨了198台光刻機，具體包括11台EUV光刻機、76台ArFi光刻機、14台ArF光刻機、71台KrF光刻機、26台i-line光刻機；ASML每台EUV光刻機的均價在1億歐元以上，2018年Q1季的單價更是接近1.2億歐元！

2017年里，尼康共出貨了27台光刻機。

其中，ArFi光刻機占6台，ArF光刻機占8台，KrF光刻機占2台，i-line光刻機有11台。

同年，佳能則出貨了70台光刻機，其中有超過50台是i-line光刻機，其餘的是KrF光刻機台。

從ASML和台積電共同研發浸液式光刻機並獲得成功之後，台積電自2008年4月起就徹底放棄了日本製造的光刻機，且至今都沒再從日本採購一台光刻機。

韓國的客戶亦從2008年10月開始放棄了日本的光刻機。