三星：憑藉全新的7nm晶片，為更快的電池續航做好準備
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三星的新晶片製造方法現已投入生產，將有助於確保手機和小工具更快，更節能。
三星今天宣布開始生產7納米（nm）晶片，其低功耗Plus（LPP）工藝採用極紫外光刻技術（EUV），這項技術已經開發了數十年，但直到現在還沒有使用過在生產中。
三星的7nm LPP EUV工藝將用於製造高通公司未來的Snapdragon 5G移動晶片組，該公司今年早些時候證實，三星開始在其華城工廠S3 Fab生產新的60億美元EUV生產線用於生產7nm晶片。
三星表示，客戶將能夠利用該流程為5G，人工智慧，超大規模數據中心，物聯網，汽車和網絡構建晶片。
據三星稱，這種製造晶圓的方式給客戶帶來的一個主要好處是，它可以讓他們使用更便宜的晶片製造工藝更快地推出新產品。
通過使用EUV光刻技術在矽晶片上生成圖案，可以實現更快的生產。
EUV能夠產生13.5nm波長的光，並允許三星一步建立晶圓層，而不是傳統的氬氟化物浸沒技術所需的多次曝光，這些技術僅達到193nm波長。
三星稱之為7LPP的7nm製造技術與10nm工藝相比，面積效率提高了40％，性能提高了20％，功耗降低了50％。
三星預計到2020年將為需要大規模生產下一代晶片設計的客戶提供新的EUV產品線。
三星晶片的競爭對手台灣半導體公司台積電已經擁有7nm技術，但採用了不同的技術。
它為iPhone XS和XS Max構建了Apple的X12 Bionic 7nm晶片，這是移動行業的第一款。
三星開始在其華城工廠S3 Fab生產新的價值60億美元的EUV生產線，用於生產7納米晶片。
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