國產芯發力!中芯國際花費巨資購買晶片刻蝕設備以縮短國際差距
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轉載自:安卓中國
到來今年2018年,英特爾、台積電、三星等晶片巨頭都已經發展到了10納米和7納米的技術節點了。
而國產芯目前還在28納米上緩慢發展。
這讓無數期待著國產晶片的朋友多少都有點擔心。
這將會為國產晶片的未來發展邁出巨大的一步。
半導體工藝需要對矽圓片進行刻蝕才能製造出相關的晶片。
而進入10納米工藝後,傳統193納米紫外光光刻機很難在精度上進行矽圓片的刻蝕。
這讓後面生產晶圓變得非常困難。
而ASML的EUV光刻機則能較好地解決這個問題。
因此,中芯國際就算不惜成本也要拿下光刻機,為國產7納米晶片的製作提供技術支持。
屆時,手機行業以及電腦行業都有機會用上國產製造的處理器。
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