ASML出貨新光刻機NXT2000i：用於7nm/5nm DUV工藝

據外媒報導，光刻機霸主ASML（阿斯麥）已經開始出貨新品Twinscan NXT:2000i DUV（NXT:2000i雙工件台深紫外光刻機），可用於7nm和5nm節點。

NXT:2000i將是NXE:3400B EUV光刻機的有效補充，畢竟台積電/GF的第一代7nm都是基於DUV工藝。

同時，NXT:2000i也成為了ASML旗下套刻精度（overlay）最高的產品，達到了和3400B一樣的1.9nm（5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm）。

ASML將於本季度末開始量產Twinscan NXT:2000i，價格未披露。

目前，NXE:3400B EUV光刻機的報價是1.2億美元一台，傳統的ArF沉浸式光刻機（14nm節點）報價是7200萬美元之間， NXT:2000i肯定是在這兩者之間了。

最後簡單介紹下ASML公司，其脫胎於荷蘭飛利浦的光刻研發小組，2017年全球光刻機市場占比7成，是絕對的一哥，後面跟著的是佳能、尼康和上海微電子。

集成電路在製作過程中經歷材料製備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜、機械研磨等多個工序，其中以光刻工序最為關鍵，它是整個集成電路產業製造工藝先進程度的重要指標，即在晶片製造過程中的掩膜圖形到矽襯底圖形之間的轉移。

（上刻出電晶體器件的結構和電晶體之間的連接通路。

）

圖為NXE:3300 EUV光刻機